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產(chǎn)品分類品牌分類

檢測(cè)系統(tǒng): 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 TOF-MS飛行時(shí)間質(zhì)譜儀

刻蝕系統(tǒng): RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機(jī)

沉積系統(tǒng): 進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī) TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

生長(zhǎng)系統(tǒng): MOCVD設(shè)備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設(shè)備

清洗去膠系統(tǒng): 等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī) 大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機(jī)

熱真空試驗(yàn)系統(tǒng): 熱真空試驗(yàn)箱熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備空間環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備熱真空系統(tǒng)

核心組件: Platens樣品臺(tái) 等離子體源

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NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:42:11 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-3500IBM離子銑
MOVPE設(shè)備
NMC-4000 MOVPE設(shè)備：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置（...

型號(hào)： NMC-4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:40:16 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)MOCVDPA-MOCVDPAMOCVD
NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:38:08 對(duì)比

反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-3500IBM離子銑
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:34:36 對(duì)比

濺射磁控濺射鍍膜機(jī)價(jià)格鍍膜機(jī)

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