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CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

LSC4000 半導體晶圓清洗設備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NIE-4000 IBE離子束刻蝕機：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

光學鍍膜設備：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

微波等離子化學氣相沉積系統: NM的微波PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，...

NLD-3500（M）原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統配套機械手，也可以升級...

NLD-4000（M）原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的...

NIE-4000IBE離子束刻蝕系統：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情...

NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵...

NSC-4000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達到到8“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達1...

NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于...

NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?..

NRE-3000 反應離子刻蝕機：PC控制的RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

RIE刻蝕機：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配...