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CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

MS-200便攜式飛行時間質譜儀TOF-MS是一款支持電池供電，用于氣體分析的電子電離質譜儀—wan全裝在手提箱里。

LSC4000 半導體晶圓清洗設備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NIE-4000 IBE離子束刻蝕機：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

SurfaceSeer I是一款高靈敏度、高質量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質譜儀（TOF-SIMS），可以用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。Su...

高分辨二次離子質譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段，憑借質譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能，廣泛應用于醫學、細胞學、地質礦物學、半導體、微電子...

Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀，用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。SurfaceSeer ...

Kore SurfaceSeer S在飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）系列中，是一款高性價比且經久耐用的產品。它是研究樣品表面化學成分的理想選擇，適用...

KORE PTR 3C是KORE最新研發的一款質子轉移反應飛行時間質譜儀（PTR-TOF-MS），緊湊型Kore PTR 3c是一種“軟"化學電離工具，用于對環...

Kore高質量分辨率飛行時間質譜儀EI-TOF-MS提供實時、高時間分辨率、高靈敏度的所有氣體種類并行檢測。所有的質量都被收集起來，并限度地保留所有的信息。雙進...

光學鍍膜設備：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

微波等離子化學氣相沉積系統: NM的微波PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，...

緊湊型電子電離飛行時間質譜儀是一款模塊化、計算機控制的飛行時間質量分析儀，可作為臺式版本提供。該儀器可以很容易地從一個位置運輸到另一個位置，例如在汽車或貨車中。...

NLD-3500（M）原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統配套機械手，也可以升級...

NLD-4000（M）原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的...

NIE-4000IBE離子束刻蝕系統：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情...

NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵...