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NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

光學鍍膜系統：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

進口ALD設備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗...

等離子體增強MOCVD：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的...

金屬有機化學氣相沉積系統MOVPE設備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）...

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

NANO-MASTER （那諾-馬斯特）可根據客戶需求，提供合適的Plasma Source等離子體源，可以是空心陰極等離子源，也可以是感應耦合等離子源。等離子...

NANO-MASTER（那諾-馬斯特）Platens樣品臺，又稱為基板或加熱板，是真空鍍膜設備中常用到關鍵部件。因此樣品臺可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PE...

NMC-4000（M）PA-MOCVD設備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個...

NDT-4000熱真空試驗箱：NDT-4000是NANO-MASTER進口熱真空系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機...

熱真空環境模擬試驗設備：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安...

空間環境模擬試驗設備：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安全...

NPC-3500（A）研發用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠...

研發用等離子去膠機：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片清洗。ASTRO96...

NDT-4000熱真空系統：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制...

NOC-4000進口光學鍍膜機：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第...

NRE-4000型RIE-PE刻蝕機：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...