監控薄膜沉積，有力的工具
KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀光譜反射率系統能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性。
樣品層
KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。
各項優點:
極大地提高生產力
低成本 —幾個月就能收回成本
A精確 — 測量精度高于 ±1%
快速 — 幾秒鐘完成測量
非侵入式 — 在沉積室以外進行測試
易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
幾分鐘就能準備好的系統
型號規格
| 型號 | 厚度范圍 | 波長范圍 |
F30 | 15nm-70μm | 380-1050nm |
| F30-EXR | 15nm-250μm | 380-1700nm |
| F30-NIR | 100nm-250μm | 950-1700nm |
| F30-UV | 3nm-40μm | 190-1100nm |
| F30-UVX | 3nm-250μm | 190-1700nm |
| F30-XT | 0.2μm-450μm | 1440-1690nm |
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