KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳
波長選配
KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列使用近紅外光來測量薄膜厚度，即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。 F3-s980 是波長為980奈米的版本，是為了針對成本敏銳的應用而設計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的最佳化設計,F3-s1550則是為了最厚的薄膜設計。
附件
附件包含自動化測繪平臺，一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力最薄至15奈米。
包含的內容：
集成光譜儀/光源裝置
光斑尺寸10微米的單點測量平臺
FILMeasure 8反射率測量軟件
Si 參考材料
FILMeasure 獨立軟件 (用于遠程數據分析)
型號規格
型號 厚度范圍 波長范圍 F3-s980 1μm-1mm 960-1000nm F3-s1310 15μm-2mm 1280-1340nm F3-s1550 25μm-3mm 1520-1580nm 
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