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產品分類品牌

EVG光刻機: 掩模對準曝光機光刻膠處理系統

全部產品列表

全部熱門品牌

Dymek岱美儀器量產型光刻機系統參考價：面議

參考價：面議型號：HERCULES
光刻機Track系統通過集成的生產系統和結合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產品系列。HERCULES光刻機Track...
型號： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 對比

HERCULESEVG納米壓印光刻機

2024/11/9 15:09:323530
Dymek岱美中國儀器自動掩模對準系統參考價：面議

參考價：面議型號：IQ Aligner NT
?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優化的工具軟件...
型號： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 對比

光刻機光刻掩膜掩模曝光

2024/11/9 16:20:011523
EVG620 NT-掩模對準光刻機系統參考價：面議

參考價：面議型號：Dymek岱美儀器
EVG620 NT-掩模對準光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。
型號： Dymek岱美儀器品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格掩模對準曝光機

2024/11/9 13:17:185524
EVG610-單面、雙面光刻系統參考價：面議

參考價：面議型號：
EVG610-單面、雙面光刻系統 EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發系統，可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格

2024/11/9 13:15:232424
EVG6200 NT掩模對準光刻系統參考價：面議

參考價：面議型號：
EVG6200 NT掩模對準光刻系統特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格納米壓印機

2024/11/9 13:13:263277
IQ Aligner 自動掩模對準系統參考價：面議

參考價：面議型號：
IQ Aligner 自動掩模對準系統用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
型號：品牌：EVG所在地：上海市 對比

自動掩模對準系統對準系統光刻機光刻機價格

2024/11/9 12:34:332294
光刻膠勻膠機參考價：面議

參考價：面議型號：EVG101
研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。 EVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿足研發工作，與EVG的自動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，...
型號： EVG101 品牌：所在地：上海市 對比

勻膠機勻噴膠機微流控加工光刻膠加工EVG101

2024/11/26 17:18:143810
EVG單面/雙面掩模對準光刻機參考價：面議

參考價：面議型號：EVG610
EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準光刻機微流控納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準...
型號： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對比

EVG光刻機微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機

2024/11/9 12:10:298913