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新材料系列之——高純鉭高純鈮中的雜質元素分析

閱讀:146      發布時間:2022-8-15
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根據新思界產業研究中心發布的《2021-2025年高純鉭行業深度市場調研及投資策略建議報告》顯示,高純鉭是大規模集成電路生產所*的關鍵材料。我國集成電路產業發展迅速,現階段是quan球最大的集成電路市場,且增長速度高于全球平均水平,為高純鉭行業帶來廣闊市場空間。2020年,我國集成電路市場規模超過1400億美元。集成電路是電子信息產業的重要組成部分,在信息化時代背景下,高純鉭需求規模將持續增長。

圖片1.png

高純鉭 靶材 鉭靶

圖片2.png

高純鈮 靶材 鈮靶

(點擊查看大圖)

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01

He作為RQ cell碰撞氣體測試

?

選擇5.0mL/min He作為RQ cell碰撞氣體進行測試,發現Ag受到干擾(14N93Nb等)影響,在5.0mL/min He流量下干擾能得到改善。

02

測試結果及回收率

?

為考察方法的準確性,對樣品進行加標回收率測試,在樣品中加入1μg/mL雜質元素標準溶液,測試結果及回收率如表所示。

表. 樣品測試結果及回收率

(點擊查看大圖)

03

Ga和Rh內標穩定性

?

儀器接口對該類樣品的耐基體效應,分別以高純鉭和高純鈮試劑為基準,連續泵入加標溶液,并每隔10min對加標液進行監控,Ga和Rh內標穩定性如下圖所示:

結論

結果表明回收率和穩定性較好,賽默飛iCAP RQ儀器能滿足生產工藝中高純鉭、高純鈮的產品質量控制需求。

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