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l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統l系統可用于研發和小批量生產l系統兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規則碎片
l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統l系統可用于研發和小批量生產l系統兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規則碎片；不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔...
一、簡介：TFS200是一款適用于科學研究和企業研發的最靈活的ALD平臺，是為多用戶研究環境中將可能發生的交叉污染降至而特別設計的
一、產品介紹CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃
v應用方向：提供深硅蝕刻（DSiE）領域的MEMS
v離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣
v可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝v兼容200mm以下所有尺寸的晶圓
一、產品介紹：CIF推出RIE反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發方式，實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕
v晶圓甩干機系高潔凈度的沖洗旋干設備
v供藥系統用于廠內供藥，通過該系統可以按照設定的配比，將特定的藥液通過相應的管路供應到制程中
v控溫范圍：室溫-300℃v溫度分辨率：0.1℃v控溫精度：±0.2℃v溫度均勻性：＜±1％v可存貯100組烤膠配方
v全封閉式桌面顯影機
v滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求v直徑200毫米的石英室v內部石英管的設計便于拆卸和清洗v基片尺寸可達直徑150毫米v三區電阻爐
v應用方向：高質量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學、電介質層、鈍化以及諸多其它用途
vMOCVD設備是通過將反應物質以有機金屬化合物氣體分子的形式
v主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴散，化合物半導體退火，離子注入后退火，電極合金化等v樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規整樣品退火v退火溫...
v光源：375nm、385nm、405nm激光器v線寬：0
一、產品介紹CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案
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