目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>高真空鍍膜機>> 微型PECVD系統
產品簡介： 微型 PECVD 系統采用 ? 3" × 16" 的石英腔體， 內部設有加熱圈對樣品進行加熱， 溫度可 以達到 400℃ ，且采用程序化控溫，系統還配有 2 通道混氣裝置和雙旋機械泵，整套系統安放于移動架上， 便于實驗操作。本系統系對于薄膜生長和納米線的制作是的選擇。
產品型號 | 微型 PECVD 系統 |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺： 尺寸 600mm×600mm×700mm ，承重 50kg 以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 1、加熱圈套有石英罩，以減小熱量損失。 2、樣品可置于加熱線圈內，以達到更好的加熱效率和溫度均勻性。 3 、采用 PID 方式調節溫度， 可設置 30 段升降溫程序。 4、設有一滑動法蘭安裝于移動加上，以便于樣品的放入和取出。 |
5 、已通過 CE 認證。 | |
技術參數 | 等離子源 1、等離子體射頻電源： 110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、輸出頻率： 13.56MHz |
3、射頻功率： 7.2W 、10.5W 、18W 三檔，可調節 4、腔體尺寸： 外徑 ?76.2mm×內徑 ?68.58mm×長 406.4mm | |
5 、加熱圈： 電源 220V ，功率 500W ，外徑 ?50mm×內徑 ?40mm×70mm ，并套有內徑 ?50.8mm×?75mm 的石英罩 6、法蘭： ?3″不銹鋼法蘭， 設有 KF-25 真空泵接口、 1/4″卡套接頭、不銹鋼針閥 7、通入氣體：可通入多種惰性氣體， 如 N2 、Ar，不可通入易燃易爆性氣體 8、真空度： 10-2torr （機械泵） | |
兩通道混氣系統 1、浮子流量計： 10ml/min-100ml/min ，2 個 2、針閥： 304 不銹鋼針閥， 3 個 3、壓力表： -0.1MPa-1.0MPa（0.01MPa/grid）， 3 個 | |
真空泵 1、抽氣速率： 120L/min 2、接口： KF-25 | |
產品規格 | 1 、尺寸： 等離子源 216mm×254mm×203mm ，控制盒 102mm×254mm×203mm，兩通道混 氣系統 340mm×300mm×180mm ，移動架 600mm×600mm×1250mm 2、重量： 32kg |
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