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北京鴻瑞正達科技有限公司
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目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>高真空鍍膜機>> 振動樣品臺
更新時間：2024-03-07 23:09:52瀏覽次數：469評價
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振動樣品臺
微型PECVD系統
鈣鈦礦鍍膜機
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產品分類品牌分類
產品簡介
詳細介紹
產品詳細介紹： 可適用于高真空條件下對粉體材料的表面包覆鍍膜實驗(更新日期 2019.1.11）
產品型號
產品特點
1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部
2、粉末放置于樣品臺上，濺射時粉末振動翻轉，對粉體表面進行包覆
技術參數
1、樣品臺振動頻率可調節： 6-33Hz
2、 樣品臺直徑為 50mm
3、建議樣品量: < 500 mg
4、建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um
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