目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>高真空鍍膜機>> OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發鍍膜（CSS）爐
產品簡介： OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發管式爐， 專門用于 PVD 或 CSS 法制作薄膜； 其爐管外徑為 11″ ，爐管內載樣盤可放置 3″ 的圓形或 2″×2″的方形基片； OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜（ CSS ）爐加熱元件為兩組紅外燈管， 分別安裝在腔體頂端和底部， 升溫速率高達 20℃/s ，可迅速使爐腔內溫度升高； 冷卻速率： >10℃/s ，可在鍍膜后使樣品快速降溫； 溫控系統采用 PID30 段程序化控制， 控溫精度為±1℃， 并且儀器面板上帶有 RS485 接口， 若儀表內配有控溫軟件， 就可將升 溫程序和曲線導出。
產品名稱 | OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜（CSS）爐 |
產品型號 | OTF-1200X-RTP-II |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：設備需選配自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電： AC220V 50Hz（20A 空氣開關），必須有良好接地 3 、氣： 設備腔室內需充注氬氣（純度 99.99%以上） ，需自備氬氣氣瓶（自帶 ?6mm 雙卡套接 頭） 4、工作臺：設備為落地式， 占地面積 1m2 以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 1、為了減小熱輻射和達到快速冷卻的效果，加熱元件被嵌在水冷機構上。 |
2 、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片（?76mm×0.5mm），使得樣品基片上的溫度更加 |
均勻。 3 、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上，用于盛放蒸發料。 4 、真空法蘭通過兩個硅膠 O 型圈進行密封，通過機械泵其腔內真空度可達 10-2torr ，通過分子 泵真空度可達 10-5torr。 5、兩個真空法蘭都可以通過手動操作進行上下移動。 6、一個數字式真空顯示計安裝在法蘭頂部，可以精 確測量腔內真空度。 | |
技術參數 | 1 、電源： 單相 AC208V-240V （需 20A 的空氣開關） 2、真空腔體：高純石英管， 外徑 280mm ，內徑 275mm ，高 229mm |
3、加熱元件： 兩組 IR 紅外燈管， 額定功率 800W ，總功率 1600W 4、熱電偶： S 型熱電偶 2 個，分別安裝于上下法蘭上 5、工作溫度：兩個加熱區域單獨工作的極限溫度≤650℃，兩加熱區域極限溫差≤350℃ 6、加熱速率： >8℃/s 7、冷卻速率： >10℃/s（600℃-100℃） 8、真空法蘭： 316 不銹鋼制作， 配有 1 個 KF-25 接口、 2 個 1/4″軟管接頭 9、真空計：數字式真空顯示計 | |
可選配件 | 1 、PC 控溫軟件 2、兩路混氣系統 |
3、多路浮子混氣系統 4、多路質子混氣系統 5、真空泵 6、水冷機 |
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