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北京亞科晨旭科技有限公司
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電子束光刻系統

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號CRESTEC

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 15:27:53瀏覽次數:1630次

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產地類別 進口 價格區間 150萬-200萬
應用領域 電子
電子束光刻系統特點
1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍 
2.出色的電子束偏轉控制技術 
3.采用場尺寸調制技術,電子束定位分辨率(address size)可達0.0012nm 
4.采用軸對稱圖形書寫技術,圖形偏角分辨率可達0.01mrad 
5.應用領域廣泛,如微納器件加工,Si/GaAs

電子束光刻系統特點
1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉控制技術
3.采用場尺寸調制技術,電子束定位分辨率(address size)可達0.0012nm
4.采用軸對稱圖形書寫技術,圖形偏角分辨率可達0.01mrad
5.應用領域廣泛,如微納器件加工,Si/GaAs


電子束光刻系統參數
1.小線寬:小于10nm(8nm available)
2.加速電壓:1-50kV
3.電子束直徑:小于2nm
4.套刻精度:20nm(mean+2σ)
5.拼接精度:20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)
7.描電鏡分辨率:小于2nm


產品介紹
納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供的電子束納米光刻(EBL)系統,或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統。型號包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達8nm,小束斑直徑2nm,套刻 精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。

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