專(zhuān)業(yè)電子束曝光系統(tǒng)

電子束直寫(xiě)系統(tǒng)  EBPG5150

自動(dòng)化和高速度的電子束直寫(xiě)技術(shù)

電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟電子束曝光機(jī)EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，對(duì)電子束直寫(xiě)應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 

Improved Specifications

• Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
• Extreme beam current up to 350 nA
• Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

• 高束流密度，熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換
• 155mm的平臺(tái)
• 小曝光特征尺寸小于8nm
• 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器
• 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫(xiě)場(chǎng)大小，大可以到1mm
• GUI人機(jī)交互界面友好，簡(jiǎn)潔易用，適用于多用戶(hù)環(huán)境
• 多項(xiàng)靈活可選擇的配置，可以適用于不同應(yīng)用的需求

可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級(jí)

EBPG5150可以選擇不同的升級(jí)選項(xiàng)，以滿(mǎn)足用戶(hù)不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓*的高校等研究類(lèi)用戶(hù)也可以使用這款非常先進(jìn)、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng)。

電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150 應(yīng)用

• 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

• 微盤(pán)諧振器

• 開(kāi)口環(huán)諧振器

電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150 產(chǎn)品詳情