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等離子體增強(qiáng)MOCVD
  • 等離子體增強(qiáng)MOCVD
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貨物所在地:國外

地: 美國

更新時間:2024-10-15 21:00:07

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等離子體增強(qiáng)MOCVD:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,*的安全

等離子體增強(qiáng)MOCVD

等離子體增強(qiáng)MOCVD概述:

    MOVPE,也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積), 針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環(huán)、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空),*的安全互鎖。

    目前,NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng),該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

型號:

  • 臺式系統(tǒng)
  • 5個帶獨立冷卻槽的起泡器
  • 加熱的氣體管路
  • 950 °C樣品臺,2"晶圓片
  • 3個氣體環(huán)
  • RF等離子源,帶淋浴頭氣體分布
  • 工藝完成后N2自動沖洗
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 250 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
  • 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機(jī)全自動控制
  • 菜單驅(qū)動,4級密碼訪問控制
  • 完整的安全聯(lián)鎖

 配置:

  • 獨立系統(tǒng)
  • 14"不銹鋼立方體腔體
  • 1次在8"樣品臺上處理1個6"晶圓片或在12"樣品臺上處理5片4"片子
  • 加熱的氣體管路
  • RF等離子源,自動調(diào)諧
  • 淋浴頭氣體分布
  • 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
  • N2沖洗
  • 手動或自動的晶圓片上下載
  • 可以兼容到集群配置中

應(yīng)用:

  • 35族半導(dǎo)體層
  • 藍(lán)色發(fā)光二極管
  • 激光二極管
  • 紫外-可見光譜光電中的氮化銦納米棒
  • 3D2D材料中的二硫化鉬、氮化硼、石墨烯

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