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全自動磁控濺射系統技術分類2016/1/23
全自動磁控濺射系統是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等...
光學元件鍍膜機先進的技術介紹2015/12/29
鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無...
干法刻蝕技術2015/8/28
干法刻蝕技術*，在芯片制造的過程中，硅片表面圖形的形成主要依靠光刻和刻蝕兩大模塊。光刻的目的是在硅片表面形成所需的光刻膠圖形，刻蝕則緊接其后地將光刻膠的圖形轉移到襯底或襯底上的薄膜層上。隨著特征尺寸要...
微加工：材料刻蝕2015/8/6
Thispageintendstopresentthedifferentmajortechniquesusedinmicrofabricationtoetchamaterialsothatthelay...
微加工：材料沉積2015/7/31
Thispagetalkaboutthedifferentwaystodepositmaterialsinmicrotechnology(referedtowithbarbarianwordssuch...
微加工：光刻2015/7/31
Lithographyisthestepthatallowsthedefinitionofthepatternonthesubstrate:thankstoapolymerresist,ａndusin...
微加工：剝離2015/7/31
Lift-offprocessinmicrostructuringtechnologyisamethodofcreatingstructures(patterning)ofatargetmateria...
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