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大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關閉，卡盤適配器和一個真空卡盤，最多可用于3個晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數
桌面型號，獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學品分配，2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關閉
卡盤適配器和一個真空卡盤，最多可用于3種晶片尺寸
最高轉速1500rpm

腔室最大直徑約450mm

大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關閉，卡盤適配器和一個真空卡盤，最多可用于3個晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數
桌面型號，獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學品分配，2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關閉
卡盤適配器和一個真空卡盤，最多可用于3種晶片尺寸
最高轉速1500rpm
腔室最大直徑約450mm