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反應離子刻蝕機系統 參考價：面議
反應離子刻蝕系統???????RIE600W是一款進口等離子體反應離子蝕刻機,用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。
感應耦合反應離子刻蝕系統 參考價：面議
???????感應耦合反應離子刻蝕系統ICPRIE由射頻電源感應產生等離子體,以產生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺...
等離子體增強原子層沉積系統 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積系統采用*大的腔室和等離子ALD模塊,獲得**的原子層沉積效果。
ALD系統,原子層沉積設備 參考價：面議
ALD系統AT410提供了用于3D樣品制備的共形導電薄膜解決方案，同時還提供了目前使用濺射/蒸發生長的傳統2D涂層。
電感耦合等離子體化學氣相沉積系統 參考價：面議
電感耦合等離子體化學氣相沉積系統是為等離子化學蝕刻系統應用設計的反應離子蝕刻RIE和ICPCVD系統,將反應離子刻蝕RIE和電感耦合等離子體刻蝕ICP兩種等離子...
等離子體增強化學氣相沉積系統 參考價：1000000
等離子體增強化學氣相沉積系統是采用PECVD技術專業為介質膜鍍膜設計的化學氣相沉積設備。
COVAP物理氣相沉積系統,PVD系統 參考價：面議
COVAP物理氣相沉積系統為許多工藝應用提供緊湊、經濟、但仍然穩健的PVD解決方案。
離子束沉積系統,離子shu沉積濺射鍍膜 參考價：面議
離子束沉積系統IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實現離子束沉積濺射鍍膜。然后，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
電子束蒸發系統,EB-4P電子shu沉積系統 參考價：800000
電子束蒸發系統EB-4P也是電子束沉積系統,有四個容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
超高真空激光分子束外延團簇系統 參考價：1500000
超高真空激光分子束外延團簇系統 laser cluster將不同的薄膜和分析技術結合成一個強大的系統。***多可將七個單獨的腔室連接到中央傳輸模塊，從而在超高真...
XWS寬帶等離子體光源 參考價：面議
這款寬帶等離子體光源XWS是激光泵浦等離子體超亮度光源,輸出光譜范圍180nm ~2500nm,輸出光功率高達40W,可替代傳統氣體放電光源（如氙燈、氘燈、鎢燈...
等離子體芯片開封機 參考價：面議
這款等離子體芯片開封機利用大氣微波等離子體針產生的氧氣等離子體分解IC封裝模塑實現IC封裝脫封和開帽。
離子體灰化蝕刻系統 參考價：面議
等離子體灰化蝕刻系統e3600采用zuixin的光刻膠去除技術,為去除晶圓光刻膠提供高效方案。可以在不改變硬件的情況下同時處理不同尺寸的晶圓。
矢量網絡分析儀校準器,VNA自動校準儀 參考價：面議
該矢量網絡分析儀校準器模塊通過USB或5.5 DC連接器通電，并通過USB或LAN與VNA進行通信，通過一個啟動按鈕，可通過VNA的四端口校準完成一個端口。
高級等離子體表面處理系統,表面活化增強 參考價：面議
高級等離子體表面處理系統NEBULA是為器件等離子體處理設計的大型等離子體處理機器,離子體表面處理系統NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化...
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