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貨物所在地：上海上海市

更新時(shí)間：2024-08-27 21:00:08

有效期：2024年8月27日 -- 2025年2月27日

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產(chǎn)品分類品牌

EVG光刻機(jī): 掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī) 光刻膠處理系統(tǒng)

EVG鍵合機(jī): 對(duì)準(zhǔn)設(shè)備晶圓鍵合機(jī) 直接鍵合設(shè)備臨時(shí)鍵合/解鍵合金屬鍵合設(shè)備

晶圓關(guān)鍵尺寸測(cè)量

EVG納米壓印機(jī): UV-NIL/SmartNIL紫外壓印納米壓印母版制作系統(tǒng)

膜厚儀: Thetametrisis膜厚儀光學(xué)相干斷層掃描全自動(dòng)同質(zhì)膜厚測(cè)量系統(tǒng) 硬化涂層膜厚儀 Filmetrics膜厚儀

防震臺(tái): Herz TDI氣浮式被動(dòng)防震臺(tái) Herz AVI系列主動(dòng)防震臺(tái) Herz 電鏡隔振臺(tái) DAEIL DVIA-T主動(dòng)防振臺(tái) Stefan Mayer主動(dòng)消磁系統(tǒng)

晶圓厚度測(cè)量: 硅片厚度測(cè)量?jī)x 半自動(dòng)晶圓厚度測(cè)量

應(yīng)力測(cè)量: FSM應(yīng)力儀 ilis應(yīng)力儀

3D形貌儀/白光干涉輪廓儀: 白光干涉儀彩色共聚焦輪廓儀 Filmetrics 3D光學(xué)輪廓儀白光干涉+共聚焦一體機(jī) 晶圓形貌和參數(shù)檢測(cè)

光學(xué)鏡頭對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(定心儀)

片電阻測(cè)量?jī)x: 薄膜電阻測(cè)量?jī)x

晶圓缺陷檢測(cè): 全自動(dòng)AOI系統(tǒng) 雙2D AOI系統(tǒng) LAZIN

等離子去膠: 微波等離子清洗

橢偏儀: FilmSense 橢偏儀

臺(tái)階儀

4D 動(dòng)態(tài)激光干涉儀: PhaseCam 6010 PhaseCam 4030

光學(xué)粗糙度測(cè)試儀

電容式位移傳感器: Microsense 位移傳感器

磁性材料檢測(cè)設(shè)備

全自動(dòng)測(cè)量機(jī)臺(tái)

全部產(chǎn)品列表

供應(yīng)簡(jiǎn)介

等離子去膠工藝擁有低污染顆粒，低成本大規(guī)模量產(chǎn)，高均勻性與高可復(fù)制性等工藝特征。

詳情介紹

boffotto 寶豐堂自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的先進(jìn)干法去膠、掩膜蝕刻系列產(chǎn)品，可用于大批量去膠與大劑量離子注入后去膠，同時(shí)還可用于各種硬掩膜層干法蝕刻。

微波等離子清洗，等離子去膠工藝擁有低污染顆粒，低成本大規(guī)模量產(chǎn)，高均勻性與高可復(fù)制性等工藝特征。采用高度模塊化設(shè)計(jì)，為廣大客戶提供多樣靈活配置方案，滿足不同的先進(jìn)制程要求。

等離子去膠應(yīng)用領(lǐng)域：

1、LDI后光刻膠去除；

2、光刻膠、聚合物去除（灰化）；

3、大劑量離子注入后光刻膠去除；

4、二氧化硅、氮化硅、氮化鈦掩膜蝕刻；

5、碳化硅、氮化鎵、鉭酸鋰、磷化銦材料工藝；

6、射頻濾波器BAW，SAW生產(chǎn)工藝中光刻膠去除；

7、MEMS應(yīng)用、晶圓級(jí)封裝（PR、PI、BCB、PBO）。