實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無(wú)掩模版直寫(xiě)光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能                                        

自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)功能

用戶(hù)自定義標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)功能

可視化定點(diǎn)曝光功能

自動(dòng)聚焦功能                                          

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細(xì)兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）

背部對(duì)準(zhǔn)功能（選配）                   

405nm LD光源（375nm可選）

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)參數(shù)：