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產地類別 | 進口 | 產品種類 | 差壓式 |
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價格區(qū)間 | 面議 | 介質分類 | 氣體 |
應用領域 | 環(huán)保,食品/農產品,化工,電子/電池,汽車及零部件 | 動態(tài)范圍 | 可定制 |
支持氣體 | 支持多種氣體及單位(sccm ~ slm) | 控制精度 | ±0.45% S.P. |
響應時間 | 小于 100 ms | 通信接口 | DeviceNet / PROFIBUS / EtherCAT 等 |
使用溫度 | 15°C ~ 60°C | 工作壓力 | ≤0.5 MPa(參考氣體不同略有差異) |
HORIBA D700T 是一款面向半導體制造領域的壓力不敏感質量流量控制器,采用優(yōu)良的 CRITERION® 壓力式流量測量與控制技術,具備出色的響應速度、壓力不敏感性和高精度控制能力。該產品被廣泛應用于半導體、顯示器、光電子等制造領域的氣體輸送系統(tǒng)中。
超快響應時間
配備新一代控制算法和雙閥門結構,實現了 小于 100 ms 的高速響應,大幅提高了生產效率。
進/出口壓力變化不敏感
補償機制可在工藝過程中壓力波動的情況下維持穩(wěn)定流量,保障工藝一致性。
高重復性與高精度
重復性:≤ ±0.15% F.S.
精度:優(yōu)良可達 ±0.45% S.P.,典型值為 ±0.8% S.P.
故障檢測與自診斷功能
具備優(yōu)良的自診斷能力,實時監(jiān)測并反饋壓力漂移、閥體泄漏等潛在風險。
數字化通信接口
支持DeviceNet、PROFIBUS、EtherCAT等工業(yè)協議,方便與上位系統(tǒng)集成。
適應嚴苛工藝環(huán)境
工作溫度范圍:15°C ~ 60°C,適用于各種潔凈室條件。
參數 | 數值 |
控制范圍 | 可定制 |
支持氣體 | 多種氣體 |
控制精度 | ±0.8% S.P.(典型),±0.45% S.P.(優(yōu)良) |
重復性 | ±0.15% F.S. |
響應時間 | ≤ 100 ms |
通信接口 | DeviceNet / PROFIBUS / EtherCAT 等 |
工作壓力 | 真空至 300 kPa |
使用溫度 | 15°C ~ 60°C |
接口類型 | DeviceNet / PROFIBUS / EtherCAT 等 |
半導體前段工藝(如刻蝕、沉積、離子注入)
顯示面板制造
化學氣相沉積(CVD)
原子層沉積(ALD)
光電子與精密材料工藝
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