倍率	10	焦距	20mm
焦深 (λ=550nm)	±6.9μm

SIGMAKOKI西格瑪95mm齊焦距離物鏡PAL-50

可以用于YAG的2次諧波（532nm）和4次諧波（266nm）脈沖激光的加工裝置的物鏡。
校正了可見譜區和UV激光波長兩者的色差，具有高透過率。

物鏡工作距離（WD）長，場曲也得到校正，在視場邊緣也可以得到自然清晰的觀察圖像。
可以用于同軸觀察系統或激光導入光學系統等，是無限共軛的物鏡。
也可用于紫外光的觀察。

激光損傷閾值(參考值) 0.09 J/cm2 (266nm)、0.2J/cm2 (532nm)
(脈沖寬：10ns、重復頻率：20Hz)

名稱	M Plan Apo HR 50x
倍率	50x
焦距ｆ	4 mm
NA	0.75
瞳孔直徑	φ6 mm
工作距離 WD	5.2 mm
分辨率	0.4 μm
焦深	±0.49 μm
實際視場 ( 目鏡φ24mm )	φ0.48 mm
實際視場 ( 攝像元素 1/2英寸 )	0.10×0.13 mm
自重	0.39 kg

SIGMAKOKI西格瑪95mm齊焦距離物鏡PAL-50

長工作距離物鏡(45mm齊焦距離) / EPL_EPLE

可以使用于同軸觀察系統或激光導入光學系統等，是無限共軛的長工作距離物鏡。
可用于顯微鏡觀察，也可用于可見激光的會聚。

可見譜區（400?700nm）內校正色差。
EPL/EPLE物鏡結構輕巧，用于自動對焦等，能夠提高物鏡驅動機構（SFS-OBL/SFAI-OBL）的響應速度。

EPL/EPLE技術指標

型號	倍率	焦距	NA	工作距離 WD	分辨率	焦深	瞳徑	視場 (φ24目鏡)	視場 (1/2型)	自重
EPL-5	5倍	40mm	0.13	11.6mm	2.1μm	±16.3μm	φ10.4mm	φ4.8mm	0.96×1.28mm	0.085kg
EPL-10	10倍	20mm	0.30	6.4mm	0.9μm	±3.1μm	φ12.0mm	φ2.4mm	0.48×0.64mm	0.085kg
EPLE-20	20倍	10mm	0.40	11.1mm	0.7μm	±1.7μm	φ8.0mm	φ1.2mm	0.24×0.32mm	0.085kg
EPLE-50	50倍	4mm	0.55	8.2mm	0.5μm	±0.9μm	φ4.4mm	φ0.48mm	0.10×0.13mm	0.095kg
EPLE-100	100倍	2mm	0.80	2.0mm	0.3μm	±0.4μm	φ3.2mm	φ0.24mm	0.05×0.06mm	0.105kg

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可以用于YAG的2次諧波（532nm）和4次諧波（266nm）脈沖激光的加工裝置的物鏡。
校正了可見譜區和UV激光波長兩者的色差，具有高透過率。

長工作距離物鏡(45mm齊焦距離) / EPL_EPLE

可以使用于同軸觀察系統或激光導入光學系統等，是無限共軛的長工作距離物鏡。
可用于顯微鏡觀察，也可用于可見激光的會聚。

EPL/EPLE技術指標

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可以用于YAG的2次諧波（532nm）和4次諧波（266nm）脈沖激光的加工裝置的物鏡。校正了可見譜區和UV激光波長兩者的色差，具有高透過率。

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可以使用于同軸觀察系統或激光導入光學系統等，是無限共軛的長工作距離物鏡。可用于顯微鏡觀察，也可用于可見激光的會聚。

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可用于顯微鏡觀察，也可用于可見激光的會聚。