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產品簡介：
VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及 OLED 等。
| 產品名稱 | VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀 |
| 產品型號 | VTC-600-3HD |
| 安裝條件
| 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
| 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度 99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶 Ø6mm 雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺： 尺寸 1500mm×600mm×700mm ，承重 200kg 以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要特點 | 1 、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導 電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任何調換）。 2、可制備多種薄膜，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據用戶實際需要調整。 5、可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。 |
| 技術參數 | 1、電源電壓： 220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度： < E-6mbar （配合本公司設備使用可達到 4、工作溫度： RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 5、靶槍數量： 3 個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7 、靶材尺寸： Ø2″ ，厚度 0.1mm-5mm （因靶材材質不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率： 500W （可選） 9、射頻濺射功率： 300W/500W （可選） 10、載樣臺： Ø140mm 11、載樣臺轉速： 1rpm-20rpm 內可調 12、保護氣體： Ar 、N2 等惰性氣體 13、進氣氣路： 質量流量計控制 2 路進氣， 1 個流量為 100 SCCM ，1 個流量為 200 SCCM |
| 產品規格 | 主機尺寸： 500mm ×560mm×660mm ，整機尺寸： 1300mm ×660mm×1200mm； 重量： 160kg | ||
| 標準配件 | 1 | 直流電源控制系統 | 2 套 |
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| 2 | 射頻電源控制系統 | 1 套 |
| 3 | 膜厚監測儀系統 | 1 套 | |
| 4 | 分子泵（德國進口） | 1 臺 | |
| 5 | 冷水機 | 1 臺 | |
| 6 | 冷卻水管（Ø6mm） | 4 根 | |
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | ||
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