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目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>鍍膜>> VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀2

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀2
  • VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀2
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具體成交價以合同協議為準
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  • 型號
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 北京市
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更新時間:2024-03-12 11:19:31瀏覽次數:690評價

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產品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

 

產品簡介:

    VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及 OLED 等。

產品名稱

VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

 

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。

1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度 99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶 Ø6mm 雙卡套接頭)及減壓閥

4、工作臺: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上

5、通風裝置:需要

主要特點 

1 、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任何調換)。

        2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

        3、體積小,操作簡便。

       4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。

       5、可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數

1、電源電壓: 220V    50Hz

2、總功率:<2.5KW

3、極限真空度: < E-6mbar  (配合本公司設備使用可達到img2E-5mbar

4、工作溫度: RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)

5、靶槍數量: 3 

6、靶槍冷卻方式:水冷

7 、靶材尺寸: Ø2″ ,厚度 0.1mm-5mm  (因靶材材質不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率: 500W (可選)

9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選)

10、載樣臺: Ø140mm

11、載樣臺轉速: 1rpm-20rpm 內可調

12、保護氣體: Ar N2 等惰性氣體

13、進氣氣路: 質量流量計控制 2 路進氣, 1 個流量為 100 SCCM 1 個流量為 200 SCCM

產品規格

主機尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,整機尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm

重量: 160kg

標準配件

1

直流電源控制系統

2 

 

2

射頻電源控制系統

1 

3

膜厚監測儀系統

1 

4

分子泵(德國進口)

1 

5

冷水機

1 

6

冷卻水管(Ø6mm

4 

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材

 

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