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IMA™熒光高光譜成像系統

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更新時間:2021-03-06 20:13:14瀏覽次數:657

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產品簡介

成像方式 濾光片型 工作原理 濾光片型
價格區間 面議 使用狀態 機載
應用領域 綜合
IMA™熒光高光譜成像系統可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個模塊化系統配置為快速掃描VIS,NIR和/或SWIR光譜,可同時繪制光致發光,電致發光,熒光,反射光和透射光的組合。每個IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡;這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統更快地測量百萬像素超立方體。

詳細介紹

IMA™熒光高光譜成像系統介紹:

IMA™高光譜顯微鏡平臺可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個模塊化系統配置為快速掃描VIS,NIR和/或SWIR光譜,可同時繪制光致發光,電致發光,熒光,反射光和透射光的組合。每個IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡;這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統更快地測量百萬像素超立方體。

IMA™為您打開了大門

  • 執行復雜的材料分析,例如太陽能電池表征和半導體質量控制(例如:鈣鈦礦,GaAs,SiC,CIS,CIGS等)。

  • 在復雜的環境(包括活細胞和組織)中研究IR標記。以在第二生物窗口中發射的IR熒光團的光譜異質性為例。

  • 檢索暗場圖像并獲得透明和未染色樣品(例如聚合物,晶體或活細胞)的對比度。

IMA™熒光高光譜成像系統特點:

  • 快速全局映射(非掃描)
  • 高空間和光譜分辨率
  • 完整的系統(源,顯微鏡,相機,濾鏡,軟件)
  • 無損分析
  • 可定制
  • 可見光范圍從400到1000 nm,SWIR范圍從900 nm到1700 nm

技術指標:

光譜范圍

VIS-SWIR型號 
400-1620 nm

可見光 
400-1000 nm

短波 
900-1620 nm

光譜分辨率<2納米<4納米
相機CCD,EMCCD,sCMOSZephIR 1.7

激發波長 
(多3個激光)

405、447、532、561、660、730、785或808 nm
顯微鏡直立或倒立;科學級
空間分辨率

亞微米 
(受顯微鏡物鏡NA限制)

大樣本大小10厘米x 10厘米
X,Y旅行范圍76毫米x 52毫米
Z-階段分辨率100納米
照明 
照明選項
透射,透射,LED,HG,落射 
熒光模塊,暗場模塊
波長jue對精度0.25nm
視頻模式百萬像素相機用于樣品可視化
數據處理空間過濾,統計工具,頻譜提取,數據歸一化,頻譜校準,疊加,中心位置圖等。
超光譜數據格式HDF5,FITS
單圖像數據格式HDF5,CSV,JPG,PNG,TIFF
軟件PHySpec™控制和分析(包括計算機)
尺寸圖≅150厘米x 85厘米82厘米
重量≅80公斤
 

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