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詳細介紹
二手SEM+EDX場發射電鏡掃描顯微鏡以電子束為光源，以光柵式掃描方式將精細聚焦的電子束照射到樣品上。二次電子、背散射電子等。電子與樣品之間相互作用所產生的電子然后被收集和處理，以獲得顯微形貌的放大圖像
普通熱發射掃描電子顯微鏡相比，場發射掃描電子顯微鏡具有更高的亮度和更小的電子束直徑，即更小的束斑尺寸和更高的分辨率。是納米尺度微區形貌分析的。
1. 場發射電子槍
場發射電子槍分為冷場發射電子槍和熱場發射電子槍。冷場發射電子槍的電子束直徑最小，亮度最高，分辨率最高，但對真空度要求（10—10托），穩定性差。它需要一個閃光（短時間加熱到2500K）恢復，由于穩定性問題，一些擴展的分析功能無法實現。熱場發射電子槍的最大特點是束流大、穩定性強，但分辨率差（電子能量色散大）
為了提高分辨率和保證電子束的穩定性，采用場發射電子源在鎢單晶上鍍上一層氧化鋯涂層。氧化鋯將純鎢的功函數從4.5eV降低到4.5eV.2.8eV，并且高電場的應用縮小并降低勢壘，使得電子很容易用熱能跳過勢壘（而不是隧道效應）并從針尖表面逃逸。所需的真空度約為10—8～10—9托
肖特基場致發射穩定性好，總電流大，分辨率大大提高（比冷場致發射稍差）。它的功能和發展遠高于冷場發射。熱場發射目前已廣泛應用于商業應用中?；旧暇褪切ぬ鼗鶊霭l射。
等勢線與磁力線正交，通過透鏡間隙向兩端延伸，形成會聚場，相當于一個“凸透鏡"。電子束通過中間時，受到強磁場的偏轉和聚焦，使大直徑的電子束通過聚光鏡后會聚成小直徑的束斑。
3. 孔徑
按孔徑大小分為大孔徑光闌和小孔徑光闌。通過大口徑光闌的束流較大，可以增強X射線。通過小孔徑光闌的束流較小，可以減少電荷量，提高成像質量。
4.二手SEM+EDX場發射電鏡物鏡
物鏡位于鏡筒底部，用于將電子束聚焦在樣品上。通過聚焦旋鈕調節目標電流，可以改變電子束的聚焦。
德國蔡司研制出一種復合磁/靜電物鏡，保證物鏡下沒有磁場泄漏。能夠獲得高純度的二次電子信號，這有助于提高分辨率。一方面，磁性材料可以在近距離和高分辨率下觀察到。另一方面，也有可能在大寫字段中實現無失真。
5.探測器
電子束轟擊樣品表面，相互作用產生二次電子、背散射電子等。電子的空間分辨率取決于加速度電壓和樣品密度。這些電子信號由不同的探測器采集并處理成圖像。下面介紹幾種常見的電子探測器：
1) 透鏡內二次電子探測器（透鏡內SE）
透鏡內器位于物鏡上方。通過控制物鏡中的電極板電壓來選擇進入探測器的電子信息。低角度下的電子信息越多，圖像就越清晰。這些探頭適用于高分辨率表面形貌成像，即分析樣品細節。
2）Everhart-Thornley（ET）型二次電子探測器
ET二次電子探測器位于樣品室內，由集電極柵、閃爍體、光導、倍增管和前置組成。。收集柵收集的電子被加速，在閃爍體上形成光子。形成的光子通過光電倍增管和光管，轉換成電信號，經放大器放大后輸出。這種類型的探針適用于觀察樣品的形態對比度，具有很強的立體感。充電影響小。良好的Z對比度。細節很容易受到信號擴散和高倍下清晰度不足的影響
3）后向散射檢測器
背散射探測器是一種電子探測器，它可以氣動地縮回。即使在低電壓下也能高效率地識別材料特性。它有五個獨立的部分，一個內部后方環，和四個外部象限。內部段（S1）主要反映材料對比，而外部四個象限（S2至S5）更多地用于反映形式對比。。能譜探測器受電荷的影響較小，通常比二次電子圖像具有較低的分辨率。
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