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KLA Tencor® P-170 探針式輪廓儀是一款自動化輪廓儀，可為生產環節提供從幾納米到一毫米的臺階高度測量功能。該系統支持對臺階高度、粗糙度、...

薄膜反射儀是一款相對較低成本和操作簡單的工具。基于陣列的探測器系統保證快速測量，可升級到MSP（顯微分光光度計）系統，SRM映射系統，多通道系統，大點的...

光學接觸角測量儀可根據客戶的需求，針對不同的工作測試環境，提供相應的解決方案，如有技術請咨詢德國韋氏納米系統

PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子，從而控制薄膜應力。

液相擴散技術（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動擴散去除水分，不留...

AT-400原子層沉積系統高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結構上實現所需的共形性；預置有經驗證過的 3D 和 2D 沉積的優化配方；簡單...

45年來，OAI始終是紫外能量測試儀器領域的*應用商，其儀器用于半導體、微機電系統、晶圓封裝和晶圓植球行業中光刻工藝的可靠，精確校準控制。Model 659是一...

ActiGraph人體運動能耗監測儀ActiGraph設備已經被超過60個國家的幾百所大學和研究機構所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

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橢偏儀是一種利用偏振態的變化 后光束探測樣品反應技術。不像反射儀，參數（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改變入射角。可以得到更多的數據集，這將有助于精煉...

高真空MEMS焊封機

MPS-C-3X0磁體探針臺系統是世界上*個探針臺，能夠在被測試的器件上提供三維磁場控制。

低溫探針臺CPS-xxx-CF系列是一款成本低、穩定、可靠和方便的低溫半導體測試甚至低溫晶圓級別測試器件的低溫探針臺系統

Minilock-Phantom III具有預真空室的反應離子刻蝕機

杜邦蝕刻殘留物去除液

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除

Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統

聲表面波SAW功率發生器Fxilie簡化和加速聲流控實驗的一款高精度，頻率的控制器。