從半導體制造到實現(xiàn)可穿戴技術所需的柔性電子產(chǎn)品,在任何需要用到導電薄膜的行業(yè)中,對方塊電阻的測量與監(jiān)控都至關重要。KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測試儀擁有KLA方阻測量技術超過45年的創(chuàng)新積淀。自 1975 年推出電阻率計以來,KLA品牌已革新了導電層的方塊電阻和厚度測量技術。R50可對金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導和薄膜電導率進行測繪。R54是方塊電阻測量的新一代升級款,它在保持 R50相同性能情況下提供遮光環(huán)境,能夠支持半導體和化合物半導體應用。
KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測試儀結合了KLA公司45年來在方塊電阻測量領域以及Filmetrics團隊20年來在桌面式儀器和用戶界面方面的技術。
對于較薄的金屬和離子注入層,建議采用接觸式四探針(4PP)測量方法,對于較厚的金屬層和柔性或軟性的導電表面,建議采用非接觸式渦流(EC)測量方法。我們的技術能夠滿足各種測量需求,包括但不限于以下:
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金屬薄膜及背面工藝層厚度測量
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襯底電阻率
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方塊電阻
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薄膜厚度或電阻率
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薄層和體材料的導電率
經(jīng)過優(yōu)化的Filmetrics R50能夠支持各種樣品的測量需求,可以使用矩形、線性、極坐標和自定義配置等采樣點排列方式進行測繪。
KLA Instruments™ R54系列在安裝不透光外殼的情況下,能夠提供R50所具有的測量性能,并新增了X-Y-θ全自動載臺,用于半導體和化合物半導體的200mm或300mm晶圓檢測。