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NSC-3500(M)磁控濺射系統
  • NSC-3500(M)磁控濺射系統
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貨物所在地:國外

地: 美國

更新時間:2025-01-28 21:00:07

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NSC-3500(M)磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉平臺,Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

磁控濺射技術

NSC-3500(M)磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能,zui大到8"旋轉平臺,zui大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3500帶有10"派熱克鐘罩腔體或者13"鋁質腔體,32"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3500(M)磁控濺射系統產品特點:

  • 不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃
  • 260500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
  • 13.56MHz300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
  • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
  • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
  • 基于LabView軟件的PC計算機控制
  • 帶密碼保護功能的多級訪問控制
  • *的安全聯鎖功能

選配項:

  • 不銹鋼腔體
  • 熱蒸鍍能力
  • RFDC濺射
  • RFDC偏壓(1000V
  • 樣品臺可加熱到700°C
  • 膜厚監測儀
  • 基片的RF射頻等離子清洗
  • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應用:

  • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
  • 光學以及ITO涂覆
  • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
  • RF射頻等離子放電的反應濺射

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