TESCAN S9000分析儀是一款功能極其強大的分析儀器，可用于表征納米材料的表面以及進行微觀分析。TESCAN S9000采用 Triglav™ 型 SEM 鏡筒，具有超高的分辨率，在低電壓下尤為明顯；鏡筒內探測器系統具有電子信號過濾能力，可以獲得更好的圖像襯度和表面靈敏度。此外，S9000 配備肖特基場發射電子槍，能夠提供高達 400 nA 的束流，同時 Triglav™型 SEM 鏡筒所具備的出色性能和高穩定性，為微分析和長耗時樣品的分析應用提供了條件。
TESCAN S9000分析儀低電壓下的優異性能和所能獲得的各種圖像襯度，使得它非常適用于不導電樣品的成像，如陶瓷、無涂層生物樣品，以及在半導體工業和新材料研究中應用越來越普遍的光敏樣品。TESCAN S9000 使用了TESCAN Essence™ 軟件，用戶界面友好，可以滿足各類應用需求，可定制的布局以及自動化的樣品制備功能，提升了操作便捷性和工作效率。
主要特點
- 表征納米材料的解決方案
TESCAN 的 Triglav™型 SEM 鏡筒具有三物鏡系統 TriLens™ ，與同類設備相比功能更多樣化。UH-resolution 物鏡提供的超高分辨率非常適合于形貌細節觀察，使研究人員能夠更好的分析納米級樣品。全新的高分辨 Analytical 物鏡可實現無漏磁成像，是磁性樣品觀察和分析（EDS, EBSD）的理想選擇。第三個物鏡可以實現多種模式觀測，并對束斑形狀進行優化，進而改善成像和分析性能。
- 可以獲得不同襯度圖像
TESCAN S9000 配備 TriBE™ 探測器系統：包含三個背散射電子探測器，可以根據角度和能量的差異選擇性地收集信號，Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探測器位于鏡筒內，可以接收中角度和軸向的背散射電子，而樣品室內背散射電子探測器則用于接收廣角背散射電子。同時，S9000 還配備 TriSE™ 探測器系統：共有三個二次電子探測器，可在所有工作模式下以方式獲取二次電子：In-Beam SE 探測器可以在非常短的工作距離下接收二次電子；SE（BDM）為電子束減速模式下的二次電子探測器可以提供分辨率；樣品室內的二次電子探測器則能提供形貌襯度的圖像。
- 更加優秀的成像能力
新一代 Triglav™ 鏡筒中的鏡筒內探測器系統經過進一步優化，信號檢測效率提高了三倍以上。此外，該系統還擴展了檢測能力，能夠采集能量過濾后的軸向背散射電子信號，這樣就可以通過選擇性地收集低損耗背散射電子來獲得更好的襯度和表面靈敏度。
- 提供分析條件
新一代 Triglav™ 鏡筒還具有自適應束斑優化功能，可以提高了大束流下的分辨率，這一特點有利于更好的進行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。此外，肖特基場發射電子槍能夠產生高達 400 nA 的電子束流，電壓也可以快速改變并保證在所有的分析應用下都能夠獲得良好的信號。
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