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目錄:中美合資合肥科晶材料技術有限公司>>薄膜制備全套設備>>濺射源及真空腔體>> 2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD

2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD
  • 2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD
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具體成交價以合同協議為準
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  • 所在地 合肥市
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更新時間:2025-02-10 15:45:50瀏覽次數:2417評價

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HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭,可適用的靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。

    HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭,可適用的靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DCRF電源配合使用。


技術參數

特征

(點擊圖片查看詳細資料)

 

  • 采用高質量的不銹鋼和陶瓷材料制作
  • 采用電磁場的有元計算法來設計永磁體,以得到較高的磁場強度和均強場分布
  • 磁體表面涂有一層保護層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命
  • 標準的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配
  • 安裝是采用標準真空接頭,便于操作
  • 更換靶材較為簡單,無需調整濺射頭的高度

所需功率

  • DC(zui大)1000W
  • RF(zui大)500W

zui大濺射電流

3A

濺射電壓

100-1000 V

濺射時腔體真空度

5-100 mTorr

濺射均勻性曲線圖

尺寸

  • 陽極護套直徑:3.5英寸
  • 總長度:14英寸

靶材

  • 直徑: 2.0英寸(50.8mm)
  • 厚度對于非磁性靶材,zui大厚度為1/4英寸
             
    對于磁性靶材,zui大厚度為1/16英寸
  • 靶材利用率:30%
  • 磁鐵:NdFeB 稀土磁鐵

需要冷卻水

  • 流速:   0.8 GPM
  • 進水溫度:<20 ℃
  • 水管:0.25" OD.

可選配件

  • 當同時購買300W射頻發射器和2英寸磁控濺射頭時,本公司會贈送一高真空快速接頭
  • 此快速接頭的內徑為0.75英寸,可將濺射頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸,真空腔體的壁厚不得大于1英寸
     
  • 循環水冷機,流量為16L / min ,水箱容積為6L

質保

一年質保期,終生維護

 

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