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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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M-SPIN 200勻膠旋涂儀M-SPIN
勻膠旋涂儀M-SPIN
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 M-SPIN 200
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2024-05-17 10:31:13瀏覽次數:2260

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【簡單介紹】
產地類別 進口 應用領域 醫療衛生,化工,生物產業,能源,電子/電池
勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。
【詳細說明】

勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。

勻膠旋涂儀M-SPIN 200產品參數:

可處理襯底尺寸:直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底;

旋轉速度:達9,000 rpm(以1 rpm步長可調);

固定晶圓片或襯底的裝置:真空托盤;

處理時間:(1-999秒,可在1秒內調整);

加速度:1-5,000rmp/sec;

其他參數:20個程序段,每個40步

設備尺寸:約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)

控制器尺寸:約 145mmx 100mm x 120mm

 

產品選配件:

適用各種尺寸大小的托盤

分配臂

 

主營產品:

Laurell勻膠機     

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機       

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統,濕站系統     

Wabash/Carver自動壓片機



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