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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2025-04-07 17:15:57瀏覽次數(shù)：217
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新的改進和創(chuàng)新設(shè)計的 德國進口 SPS勻膠機 Polos旋涂儀 SPIN系列 SPIN200x 型號，它是一種多功能的高質(zhì)量基材旋涂機，由NPP制成，也可采用PTFE 制成。它是專門為研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計的。它是用于手動或自動（可選）化學(xué)品分配的桌面版本。
德國進口 SPS勻膠機 Polos旋涂儀 SPIN系列 SPIN200x 全新升級版現(xiàn)已上市
我們?nèi)赂倪M設(shè)計的POLOS® SPIN200x勻膠機型號現(xiàn)已開放訂購。該型號提供精準且可重復(fù)的工藝控制，主體材質(zhì)采用天然聚丙烯（NPP），或可選耐化學(xué)腐蝕的**聚四氟乙烯（PTFE）**版本。
此型號基于市場驗證的經(jīng)典型號升級開發(fā)，提供標準版與進階版兩種配置，可兼容處理：
①直徑最大200 mm的圓形基板
②150×150 mm的方形樣品
專為半導(dǎo)體、光伏、MEMS及納米材料領(lǐng)域設(shè)計，適用于多種基材的涂覆加工，性能可靠，適配嚴苛工藝要求。
品牌 | Polo |
型號 | SPIN200x |
樣品尺寸 | 晶圓：最大直徑 8" (200 mm) 方片：最大6"x6"（150mm） |
最高轉(zhuǎn)速 | 12000rpm |
加速度 | 1~30000rpm |
旋轉(zhuǎn)方向 | 可正反轉(zhuǎn) |
一．創(chuàng)新設(shè)計亮點
優(yōu)秀的結(jié)構(gòu)設(shè)計
特殊外殼與排水系統(tǒng)設(shè)計，支持桌面式與嵌入式安裝模式自由切換。模塊化結(jié)構(gòu)允許用戶通過多樣化配件升級設(shè)備，優(yōu)化點膠操作與整體流程便捷性。
二．電機歸位位置自定義
全新SPINx系列支持設(shè)定電機歸位位置，便于無縫集成至機器人控制/自動化產(chǎn)線環(huán)境。
三．便捷腔體訪問
真空吸盤高于勻膠碗邊緣，確保機械手末端執(zhí)行器、鑷子或真空吸筆可直接觸達晶圓/基板，滿足機器人操作的特殊需求。
四．自動開蓋系統(tǒng)
可通過用戶界面或腳踏開關(guān)（適配手套箱環(huán)境操作）實現(xiàn)蓋體自動開閉
支持在工藝配方結(jié)束時自動觸發(fā)開蓋動作
五．液體過濾保護裝置
SPINx系列配備液體過濾器，有效保護勻膠機核心組件（驅(qū)動單元、真空閥、真空傳感器及伺服控制器）。該裝置可攔截通過工藝腔或真空吸盤進入管路的液體，所有光刻膠或流體將被安全收集至透明觀察瓶內(nèi)（通過設(shè)備外殼視窗可實時監(jiān)測）。維護建議：定期檢查收集瓶并按需清理殘留液體。
六．適用工藝范圍
涂覆（Coating）
清洗（Cleaning）
沖洗/干燥（Rinse/Dry）
顯影（Developing）
蝕刻（Etching）
PDMI及其他特殊工藝
SPIN200x硬件規(guī)格
類別 | 參數(shù)細節(jié) |
工藝腔材質(zhì) | 天然聚丙烯（NPP）或聚四氟乙烯（PTFE，僅限Advanced版可選） |
最大基板尺寸 | 8英寸（200毫米）晶圓 或 6×6英寸（150毫米）方形基板 |
核心功能 | 液體過濾裝置、自動開蓋系統(tǒng)（進階版含腳踏控制）、可編程電機歸位位置 |
點膠系統(tǒng) | 中央注射器/點膠嘴適配接口 |
安全設(shè)計 | 蓋體鎖定裝置、真空傳感器 |
人機交互 | 大尺寸可拆卸觸摸屏、USB接口（配方存儲與軟件升級） |
驅(qū)動單元技術(shù)參數(shù)
1.驅(qū)動類型：間接無刷電機，最高轉(zhuǎn)速12,000 RPM
2.控制精度：高加速性能，轉(zhuǎn)速范圍1 - 30,000 RPM（需確認實際可達性）
3.旋轉(zhuǎn)模式：順時針/逆時針旋轉(zhuǎn)及靜態(tài)浸潤（Puddle Mode）
4.安裝兼容性：支持桌面式與嵌入式模式切換
標準配件
真空吸盤（適配4-8英寸/100-200毫米晶圓）
基板適配器套裝
