目錄:孚光精儀（中國(guó)）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>飛秒激光光刻機(jī)系統(tǒng)>> FPKLOE-Dilase650高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)
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更新時(shí)間：2024-04-02 09:15:22瀏覽次數(shù)：4848評(píng)價(jià)
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高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)是的多功能激光光刻機(jī)，它通過(guò)固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫(xiě)面積高達(dá)6英寸，zui小特征尺寸（寬度）可達(dá)1微米，適合掩膜，半導(dǎo)體，玻璃，晶體，薄膜等諸多襯底。
高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫(xiě)模式，確保直接軌跡偏離小于100nm。微型激光直寫(xiě)光刻機(jī)具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速精準(zhǔn)的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。
高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)兼容大多數(shù)商用光刻膠，比如SU8，shipley, AZ等，我們還對(duì)K-CL膠特別優(yōu)化，用于微結(jié)構(gòu)應(yīng)用。
高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)特色
非常緊湊的桌面型設(shè)計(jì)
掩膜制作和激光直寫(xiě)
激光光源375nm 或405nm 任選
兼容所有商用光刻膠
對(duì)比度高達(dá)1x20
自動(dòng)聚焦
豎直直寫(xiě)或掃描直寫(xiě)模式
高分辨率激光直寫(xiě)光刻機(jī)參數(shù)
直線直寫(xiě)速度：高達(dá)500mm/s
位移臺(tái)分辨率：100nm
重復(fù)精度：100nm
晶圓直寫(xiě)面積：1-6英寸
襯底厚度：250um-10mm
激光光斑大小：1um-50um
標(biāo)準(zhǔn)準(zhǔn)直精度：500nm
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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