超高分辨電子束曝光成像系統

電子束曝光與高分辨成像的*結合

緊湊型高性價比的多功能電子束曝光系統

PIONEERTM 集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEER Two是一個全新的*的設備，真正意義上實現了電子束曝光和成像的*結合。

PIONEER Two將專業電子束曝光設備和電子成像系統所有的良好性能，融合成一套獨立的成套系統。多功能性、穩定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統適合于不僅追求納米結構的制作及再觀察功能，且需要材料及生命科學領域中對化學成分及結構進行分析的所有用戶。

多功能電子束曝光機產品特點：

1. 集成良好的熱場發射電子光學柱(TFE, Gemini電子光學柱) 技術，實現專業電子束曝光系統領域中世jie級的小束斑尺寸(1.6 nm)

2. 專業的電子束曝光系統中集成樣品架旋轉傾斜模塊的激光干涉控制樣品臺，保留了電子成像設備的所有功能，實現高精度的定位

3. 模塊化設計和高性價比，可滿足所有科研預算：可根據應用的具體需求添加選件，以提高曝光速度、自動化程度，及成像分析功能

4. 實現真正意義的多用戶管理功能：用戶登陸到自己的界面進行圖形編輯、工藝流程控制、參數文件管理等操作，就像使用自己的電腦一樣簡單方便

5. 各種可選擇的探測器(ET-SE, inlens SE, inlens EsB, AsB, EDX ...) ，以實現電子束曝光中的對準標記識別、成像及分析等多種功能

6. 小巧緊湊的系統架構

遠優于SEM加圖形發生器的改造系統

PIONEER Two是從掃描電鏡加圖形發生器的改造系統到專業的電子束曝光系統之間的過度設備，相比于良好的帶有第三方圖形發生器及壓電工作臺的掃描電鏡，PIONEER Two是一款高性價比的成套的電子束曝光系統，其設備的集成、技術服務支持等都由一家值得信任的供應商提供。

集成專業EBL系統*的高精度激光干涉控制樣品臺技術， PIONEER Two 可實現EBL系統所保證的曝光參數，遠優于SEM加圖形發生器的改造電子束曝光設備。

PIONEER Two 電子束曝光應用

• 25nm間距的納米領結結構陣列

• 20keV下在HSQ膠上曝光亞8nm線條

• 獨立的多終端石墨烯器件

• 可調InAs/InP單電子晶體管

• 自校準浮動柵和三角形通道的室溫單電子存儲器件

• 光學數模轉換器

• 微米齒輪泵

• 多對金開口環共振器的手性超材料結構

PIONEER Two SEM 應用

• 采用標配ET二次電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像

• 采用inlens二次電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像，得到材料的高對比度成像及表面特征

• 采用inlens背散射電子探測器在1.5kV下對Bi2-Ca2-Co化合物進行成像，實現非凡的材料對比度成像，不同對比度代表不同的金屬元素

• 樣品臺傾斜時進行高分辨成像

PIONEER Two 產品詳情