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安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 展現優勢性能，助力亞納米級窄帶濾光片精準表征
窄帶濾光片是精密光學系統的關鍵元件，可通過選擇性透過特定波長來實現光譜純化、波長隔離等功能，在光譜分析中扮演著關鍵角色。傳統窄帶濾光片的半高寬 (FWHM) 通常在 10nm 左右，而亞納米級 (< 1nm) 濾光片的表征對測量儀器的性能提出了極高要求。
面對嚴苛要求帶來的技術挑戰，安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 分光光度計憑借超高的光譜分辨率脫穎而出，能夠精準實現低至 0.12nm FWHM 濾光片的光譜特性表征，滿足應用需求。與此同時，其具備智能化的 S/N 控制功能，可以動態調節掃描速度和光譜信噪比，使得光譜質量和測試效率均得到有效提升。
圖 1. SBW 對濾光片的影響
窄帶濾光片測試條件：
儀器配置：
Agilent Cary 5000/6000i UV-Vis-NIR
光路設置：
樣品光路 2 個 1mm 光闌（樣品前后各 50mm）
參考光路 2 個 5mm 光闌（配有 1.1 Abs 的后光路衰減器）
關鍵參數：
◆
光譜帶寬 (SBW) ≤ 0.040nm
◆
雙光束模式 + 獨立控制標簽激活
◆
信號平均時間 ≥ 5 秒（信噪比優化）
圖 2. 窄帶濾光片的光譜圖
安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 具有優異的硬件系統設計，可將 SBW 設置低至 0.040nm 以滿足亞納米級分辨率的測試需求。同時，通過光闌和溫度控制，可以有效減少波長漂移，采用智能的信噪比控制功能還可靈活優化掃描時間，提升效率。綜上可見，安捷倫 Cary UV-Vis-NIR 顯然是表征窄帶濾光片的理想工具，為科研與工業應用提供了可靠的數據支持！
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