半導體設備chiller即半導體冷卻器，是一種用于半導體制造過程中對設備或工藝進行冷卻的裝置，其工作原理是利用制冷循環和熱交換原理，通過控制循環液的溫度、流量和壓力，帶走半導體工藝設備產生的熱量，從而實現精確的溫度控制，確保半導體制造過程的穩定性和產品質量。

     半導體設備chiller主要有兩種類型，其原理和結構分別如下：
熱電制冷式chiller
     • 原理：基于熱電效應，當電流通過兩種不同半導體材料組成的電偶時，電子從一端移動到另一端，會在一端吸收熱量，在另一端放出熱量，從而實現制冷。通過改變電流方向，還可切換制冷制熱功能.
     • 結構：主要由散熱器、p型半導體材料、n型半導體材料、熱端冷端電極、直流電源和控制電路等組成。其中，散熱器用于散熱；p型和n型半導體材料交錯排列形成p-n結產生制冷效應；熱端冷端電極用于電能輸入輸出和傳導制冷效果；直流電源提供電能；控制電路監測和調節工作狀態.
壓縮機制冷式chiller
     • 原理：壓縮機吸入蒸發器出來的低壓工質蒸汽，將其壓縮成高溫高壓氣體送入冷凝器，在冷凝器中冷卻成高壓液體，經節流閥節流成低壓液體后送入蒸發器，在蒸發器中吸熱蒸發成低壓蒸汽，完成制冷循環。通過控制制冷劑的流向和狀態變化，實現熱量的轉移和溫度控制.
     • 結構：主要由蒸發器、冷凝器、壓縮機和節流閥四大部件構成。蒸發器是輸送冷量、吸收被冷卻物體熱量的設備；壓縮機負責吸入、壓縮和輸送制冷劑蒸汽；冷凝器放出熱量，將蒸發器吸收的熱量和壓縮機功轉化的熱量傳遞給冷卻介質帶走；節流閥對制冷劑節流降壓，控制流入蒸發器的制冷劑液體數量，并劃分系統的高壓側和低壓側.
     此外，半導體設備chiller還會有循環泵，用于驅動冷卻液或制冷劑在系統中循環流動，確保熱量能夠有效地傳遞和交換；以及控制系統，根據溫度傳感器的反饋信號，精確控制制冷系統的運行狀態、制冷量輸出等，以保持設定的溫度穩定.

     中冷低溫自主研發的Chiller ZC209是一臺對循環液進行溫度控制并輸出冷熱液的裝置。具有溫度穩定性高、溫度范圍廣、故障自診斷、外部通信等豐富功能。采用的制冷及溫度控制技術，具有廣泛的溫度范圍:-20℃至+90℃，在半導體制作過程/激光加工機/分析裝置/LCD制造裝置/金屬模具溫控等行業用途廣泛。

     Chiller ZC209主要應用于半導體、激光、FPD，如:半導體(蝕刻裝置、CMP、涂布機·顯影機、試驗機、清洗機)激光(激光加工機·激光焊接機、激光器、光纖激光器用傳送電纜接頭、超聲波檢查裝置、二次電池制造工程)可適用于廣泛的行業，如制藥、化工、新能源、半導體、實驗室、高校等多種領域。