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NexION 5000 ICP-MS測試硝酸稀釋液中超痕 量的磷、硫、硅及碘

來源:珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司   2025年03月19日 11:39  

1.前言 采用PerkinElmer的UCT技術(shù)(通用池技術(shù)),進一步強化 DRC(動態(tài)反應(yīng)池)功能的NexION 5000 ICP-MS 是目前既先進, 性能優(yōu)異的,市面上多重四級桿ICP-MS(QQQQ)。不僅 用于控制多原子干擾,還有比其他串接四級桿更強大的質(zhì)量轉(zhuǎn)移分析功能,適用于特殊的應(yīng)用。本應(yīng)用利用 NexION 5000 QQQQ-ICP-MS,確認在硝酸介質(zhì)中磷、硫、硅、氯、砷、硒、溴、碘等非金屬性元素的檢測能力。上述 元素的檢測在普通ICP-MS系統(tǒng)中比較困難,因為去離子水和硝酸稀釋液中的氮、氧、碳成分以及等離子體中的 氬,對這些非金屬元素的超痕量檢測造成很大的干擾。近年來,隨著半導體工藝的進一步精細化,需要控制的 雜質(zhì)種類增加并且要求檢測能力提高。為了滿足這些元素的檢測要求,需要提升ICP-MS的分析能力。分析去離 子水中的上述元素時,相對不受來自有機/無機氮成分、有機/無機碳成分以及硅成分的干擾。然而,在試樣預(yù)處 理后的回收或試樣預(yù)處理過程中廣泛使用的硝酸稀釋液中,其自身或所含的干擾源對檢測造成很大的影響。 因此,在硝酸環(huán)境中對這些非金屬元素的檢測能力進行驗證,是目前亟待解決的課題。


2. 材料與方法

2-1 分析儀器

本實驗使用了適用于半導體領(lǐng)域的PerkinElmer NexION 5000  QQQQ-ICP-MS : ST型100ul PFA 同心霧化器,石英旋流霧室(SilQ)、 石英中心管(SilQ,1.5mm,一體式)、鉑錐。

電子天平 :誤差率0.1mg。 所用容器進行一個月以上的酸清洗,之后選擇使用符合標準的聚 乙烯容器(60ml)

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2-2 試劑和樣品

18.2MΩ自制去離子水 :通過去除有機物和無機碳的UV系統(tǒng)、不具 有脫氣系統(tǒng)的RO系統(tǒng)、正負離子交換樹脂塔。檢測硅時,單獨使用 PFA材質(zhì)的蒸餾裝置進行附加提純后再使用。 珀金埃爾默多元素校準溶液:10ppm和1000ppm Multi-或Mono-STD, 按質(zhì)量法制備校準系列。 70%的電子級硝酸:利用石英和PFA 材質(zhì)的蒸餾裝置分別進行一 次和二次提純,此時硝酸中3d-過渡金屬離子的濃度在5ppt以下。 用去離子水稀釋一個0.7%(體積比)的硝酸溶液,用于配制標準系 列。 氫氣發(fā)生器(100ml/min),生產(chǎn)6N (99.99995%)以上氫氣,用作硅 和氯分析時的反應(yīng)氣,沒有使用高壓氣體儲罐。 氧氣:純度6N(99.9999)以上的鋼瓶氣


2-3分析條件

由于磷、硫、氯、砷、硒、溴、碘等非金屬元素具有高電離能的特點,因此選擇在射頻功率1600W的熱等離子體條件下進行分析,僅在分析硅元素 時,使用了1000W的射頻功率,避免干擾物的生成。另外,為了消除氮、氧、碳、氬等干擾,基本所有元素都采用了MS/MS模式,根據(jù)目標元素的 干擾源特點,分別采用了H2 DRC模式、O2 DRC模式、標準(無氣體)模式。

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為了消除分析磷、硫、硒、砷元素時的質(zhì)荷比重疊干擾,本應(yīng)用利用 氧生成PO+ , SO+ , SeO+ , AsO+ 形態(tài)的質(zhì)量轉(zhuǎn)移分析技術(shù)。當氧氣與 磷、硫、硒、砷結(jié)合時,通過放熱反應(yīng)生成穩(wěn)定的PO、SO、SeO、AsO 等形態(tài),容易實現(xiàn)質(zhì)量轉(zhuǎn)移(31→47, 32→48, 80→96, 75→91)。


3. 結(jié)果:

31P+ 與NOH+ ,NO+ ,CO+ ,COH+ ,SiH+ 質(zhì)荷比重疊。同樣地,32S+ 受到O2 + ,  NO+,NOH+,CO+,COH+的干擾,28Si+受到N2 +,CO+的干擾,35Cl+受到 OOH+ ,SH+ ,FO+ 的干擾,75As+ 受到40Ar35Cl+ 的干擾,80Se+ 受到40Ar2 + 干擾。這些干擾成分在去離子水中被當做雜質(zhì)嚴格管理,因此在一 定程度上相對免受影響。但由于物理及化學特性,仍會有部分殘留。 但在硝酸環(huán)境中,硝酸本身就是干擾成分,還可能含有大量雜質(zhì), 因此必然會受到干擾。


本實驗為了排除儀器系統(tǒng)對目標元素的影響,使用去離子水對 ICP-MS清洗一天,并清洗了進樣系統(tǒng)和ICP-MS接口部分,后 對個別元素進行了分析。 尤其對于硅、溴、碘,與其他元素不同,容易吸附到進樣系統(tǒng)和接口 部分,且通過常規(guī)的酸洗不易去除。因此,分析之前對進樣系統(tǒng)進 行清洗,加強分析前管理。磷、硫、硅、氯、砷、硒等元素均采 DRC模式進行檢測,溴和碘則在標準MS/MS模式上進行檢測。

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結(jié)果顯示,硅和硫的檢出限在1ppt左右,磷、砷、硒、碘的檢出限均小于1ppt,氯小于0.1ppb,溴小于3ppt。上述的檢測能力在目前市面上四極 桿類型的ICP- MS中優(yōu)秀。

3. 結(jié)果

利用搭載了珀金埃爾默公司UCT技術(shù)(通用池技術(shù))和多重四 極桿功能的NexION 5000 ICP-MS,在超痕量無機分析領(lǐng)域普遍 使用的硝酸稀釋液中,對磷、硫、硅、氯、砷、硒、溴、碘等非金屬元素 的分析能力進行驗證。硝酸稀釋液本身含有大量的影響上述元素 分析的氮成分、碳成分、硅等干擾源,排除這些干擾源的技術(shù)難度 很大,也是半導體超痕量分析領(lǐng)域的重要挑戰(zhàn)。 本實驗結(jié)果顯示,NexION 5000通過搭載UCT和多重四極桿技術(shù), 并采用氧(O2 )及氫(H2 )DRC模式和標準模式,在0.7%硝酸基底液中 能夠有效地控制磷、硫、硅、氯、砷、硒、溴、碘分析過程中的干擾源。


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