什么是單晶硅呢？它是一種半導體材料，其導電能力介于導體和絕緣體之間，主要應用于太陽能電池行業。在單晶硅的生產過程我們要對其進行清洗，而清洗單晶硅時需要使用不含雜質的超純水進行清洗，那么，超純水設備就是一種可制備超純水，出水電阻率高且不含任何雜質的設備。

目前主要的超純水系統設計的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結合的制水工藝，具有水利用率高，運行可靠，經濟合理等特點。那么，制備單晶硅清洗用水的超純水設備在長時間工作后，如果不定期進行維護，就很容易被污染，因此要對該設備進行“呵護”，才能保證設備出水水質符合要求。

如何，清洗保養超純水設備？

　　1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內混合。

　　2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至膜系統，并排走原水，防止清洗液稀釋。

　　3、保持設備溫度穩定，用清洗泵將清洗液在系統中循環。

　　4、清洗液在設備內浸泡一小時即可，污染較嚴重的膜系統可進行更長時間的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

　　6、用清水將清洗液沖去。設備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。

　　綜上，單晶硅清洗應用的超純水設備具有結構設計相對靠緊，占地面積小，應用范圍廣等特點，但只有定期清洗才能夠能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，保證設備更長久的運行。