Fizeau型干涉（斐索干涉）的測(cè)量原理主要基于等厚干涉。以下是對(duì)其測(cè)量原理的詳細(xì)解釋：

一、基本原理

斐索干涉儀利用平行光入射到厚度變化均勻、折射率均勻的薄膜上、下表面而形成的干涉條紋來(lái)進(jìn)行測(cè)量。當(dāng)光線在薄膜的上下表面反射時(shí)，會(huì)形成兩束相干光：一束是來(lái)自薄膜上表面的反射光（通常用作參考光束），另一束是透過(guò)薄膜并從被測(cè)表面反射回來(lái)的光（攜帶被測(cè)表面的形狀信息）。這兩束光在干涉儀內(nèi)部重合，形成等厚干涉條紋。

二、光路設(shè)計(jì)

斐索干涉儀的光路設(shè)計(jì)包括點(diǎn)光源、準(zhǔn)直物鏡、分束器、被測(cè)件和觀測(cè)系統(tǒng)等部分。點(diǎn)光源發(fā)出的光線經(jīng)準(zhǔn)直后，近乎正入射地照射被觀察的透明物體。光線在物體上下表面間多次反射，并從反射方向觀察干涉條紋。常用的斐索干涉儀有平面和球面兩種類型，分別由不同的組件構(gòu)成以適應(yīng)不同的測(cè)量需求。

三、干涉條紋的形成與解讀

干涉條紋的形成：當(dāng)參考光束和檢測(cè)光束重合時(shí)，它們會(huì)在觀測(cè)系統(tǒng)中形成干涉條紋。這些條紋的形狀和間隔取決于被測(cè)表面的形狀和薄膜的厚度變化。

干涉條紋的解讀：通過(guò)觀測(cè)干涉條紋的形狀和間隔，可以推斷出被測(cè)表面的形狀信息。例如，如果干涉條紋是平行的，則表明被測(cè)表面是平面的；如果干涉條紋是彎曲的，則表明被測(cè)表面是曲面的。

四、測(cè)量精度與穩(wěn)定性

斐索干涉儀的測(cè)量精度通常較高，一般可以達(dá)到檢測(cè)用光源平均波長(zhǎng)的十分之一到百分之一。其穩(wěn)定性也較好，這主要得益于其共光路原理。在干涉儀內(nèi)部，測(cè)量和參考的光束路徑是相同的，因此由空氣湍流、聲學(xué)干擾和其他因素引起的波動(dòng)對(duì)于測(cè)量和參考波束路徑是相同的，并被抵消。這種設(shè)計(jì)使得斐索干涉儀對(duì)非球面和自由曲面的靈活光學(xué)測(cè)量更易商用化。

五、應(yīng)用領(lǐng)域

斐索干涉儀在光學(xué)元件的制造和檢測(cè)中發(fā)揮著重要作用。它可以用于檢測(cè)光學(xué)元件的面形、光學(xué)鏡頭的波面像差以及光學(xué)材料的均勻性等。此外，斐索干涉儀還可以用于測(cè)量球面的曲率半徑和檢測(cè)無(wú)限、有限共軛距鏡頭的波面像差等。

綜上所述，F(xiàn)izeau型干涉（斐索干涉）的測(cè)量原理是基于等厚干涉的，通過(guò)觀測(cè)干涉條紋的形狀和間隔來(lái)推斷被測(cè)表面的形狀信息。其高精度和穩(wěn)定性使得它在光學(xué)元件的制造和檢測(cè)中具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。

TopMap Micro View白光干涉3D輪廓儀

一款可以“實(shí)時(shí)”動(dòng)態(tài)/靜態(tài) 微納級(jí)3D輪廓測(cè)量的白光干涉儀

1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描，亞納米精度下實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的重復(fù)性表現(xiàn)。

2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù)，Z向測(cè)量范圍高達(dá)100mm，不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率，為復(fù)雜形貌測(cè)量提供全面解決方案。

3）可搭載多普勒激光測(cè)振系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)“動(dòng)態(tài)”3D輪廓測(cè)量。

實(shí)際案例

1，優(yōu)于1nm分辨率，輕松測(cè)量硅片表面粗糙度測(cè)量，Ra=0.7nm

2，毫米級(jí)視野，實(shí)現(xiàn)5nm-有機(jī)油膜厚度掃描

3，優(yōu)秀的“高深寬比”測(cè)量能力，實(shí)現(xiàn)光刻圖形凹槽深度和開口寬度測(cè)量。