晶圓需要清洗，在半導體行業屬于必須的事實。那么，不少人好奇的是，晶圓清洗用純水可以嗎？對于這個問題，我們馬上來給大家一個答案：

晶圓清洗可以用純水，但通常使用的是超純水。因為如果使用純水估計會存在一些不穩定因素：

雜質影響

普通純水：雖然純水在一定程度上去除了大部分雜質，但仍可能含有微量的離子、有機物、顆粒等雜質。在晶圓清洗中，即使是微量的雜質也可能對晶圓的質量和性能產生不良影響，例如導致電路短路、漏電等問題。

超純水：超純水是經過深度凈化處理的水，其純度高，幾乎不含有除了氫原子和氧原子之外的任何細菌、有機物、無機物、礦物質、二噁英等雜質。使用超純水清洗晶圓可以減少雜質對晶圓的影響，保證晶圓的高質量和高性能。

生產效率

干燥速度：超純水具有快速蒸發的特點，能夠使晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產周期，提高生產效率。相比之下，普通純水的蒸發速度較慢，會延長晶圓的干燥時間，降低生產效率。

工藝穩定性：超純水中的溶解氣體、離子濃度等參數可以得到精確控制，這有助于保持清洗工藝的穩定性。而普通純水中的這些參數可能會有一定的波動，影響清洗效果和工藝的穩定性。

成本因素

設備投資：要獲得超純水，需要配備專門的超純水設備，如雙級反滲透系統、EDI 模塊等，設備的投資成本較高。

運行維護：超純水設備的運行和維護也需要一定的費用，包括更換濾芯、膜組件等耗材，以及定期的檢測和維護工作。不過，從長遠來看，使用超純水清洗晶圓可以提高產品的質量，減少因質量問題導致的廢品率，從而降低生產成本。