使用自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)(ASAS)-ICP-MS分析半導(dǎo)體級(jí)化學(xué)品
半導(dǎo)體制造工藝需要用到各種化學(xué)品,同時(shí)還要不斷降低其中金屬雜質(zhì)的濃度。電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)是分析化學(xué)品金屬雜質(zhì)靈敏的技術(shù)之一,也是半導(dǎo)體行業(yè)重要的分析工具。為了測(cè)定痕量級(jí)金屬雜質(zhì),大多數(shù)化學(xué)品都是在最低稀釋情況下進(jìn)行分析。然而,ICP-MS的靈敏度受較高濃度的化學(xué)品影響,需要使用標(biāo)準(zhǔn)添加法(MSA)來補(bǔ)償靈敏度的變化。
在MSA中,將不同量的標(biāo)準(zhǔn)溶液加入到樣品溶液中。這一過程可通過在不同的瓶子中制備加標(biāo)樣品溶液來完成,或者僅將標(biāo)準(zhǔn)溶液加標(biāo)到一個(gè)瓶中,并在每次分析后添加更多的標(biāo)準(zhǔn)溶液,以此來制備不同濃度水平的溶液。在將單ppt或亞ppt水平的樣品設(shè)為目標(biāo)時(shí),選單瓶方法,因?yàn)楸3趾途S護(hù)無污染瓶子的難度極大。為確保足夠的準(zhǔn)確度,需要借助具有自動(dòng)校準(zhǔn)功能的系統(tǒng),以便將高精度低體積標(biāo)準(zhǔn)溶液輸送到樣品溶液中。
本文介紹了如何使用與珀金埃爾默NexION® 5000 ICP-MS聯(lián)用的自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)(ASAS)來分析半導(dǎo)體級(jí)H2SO4和HCl中的金屬雜質(zhì)。
實(shí)驗(yàn)
1試劑和樣品
儲(chǔ)備標(biāo)準(zhǔn)溶液(1% HNO3中濃度2 ppb和0.5% HNO3中濃度0.1 ppb)由用于ASAS的10 ppm多元素標(biāo)準(zhǔn)溶液制備(XSTC-622B,SPEX CertiPrep,美國新澤西)。TAMAPURE AA-100 HNO3(Tama Chemicals Co., Ltd.,日本神奈川)用于酸化標(biāo)準(zhǔn)溶液。
使用純ω去離子水(DIW)(Organo Corp.,日本東京),所有化學(xué)品均在無塵室內(nèi)的ISO 5級(jí)潔凈氣流中制備。半導(dǎo)體級(jí)鹽酸(HCl)和硫酸(H2SO4)購自日本市場(chǎng)。
2儀器
ASAS將幾μL/min標(biāo)準(zhǔn)溶液注入樣品溶液管線,以從標(biāo)準(zhǔn)溶液創(chuàng)建校準(zhǔn)曲線。ASAS安裝在自動(dòng)進(jìn)樣器和NexION 5000多四極桿ICP-MS之間。樣品溶液通過PFA管和兩個(gè)PCTFE連接器從小瓶(位于自動(dòng)進(jìn)樣器)自動(dòng)吸入ICP-MS的霧化器中。通過特殊的注射泵將定量環(huán)中的多元素標(biāo)準(zhǔn)溶液注入到樣品管線中,從而自動(dòng)生成校準(zhǔn)曲線。蠕動(dòng)泵也可用于輸送樣品溶液,但首選自吸式,以防因使用蠕動(dòng)泵管而引入污染。
當(dāng)使用自吸式泵時(shí),采樣速度取決于化學(xué)品的粘度,因此務(wù)必準(zhǔn)確掌握采樣速度。ASAS在樣品管線中配備了兩個(gè)光電傳感器,用于檢測(cè)從閥門C引入的小氣泡,其在兩個(gè)光電傳感器之間的移動(dòng)時(shí)間與進(jìn)樣速度呈線性關(guān)系。光電傳感器連接到PFA樣品管線外部,并測(cè)量光的傳輸強(qiáng)度。這種簡單的樣品路徑配置可最大限度地減少各種化學(xué)品中亞ppt級(jí)金屬分析的污染和記憶效應(yīng)。
ASAS的關(guān)鍵專利技術(shù)是消除了從定量環(huán)到樣品溶液管線的閥門。此過程如圖1所示:
圖1:ASAS示意圖(點(diǎn)擊查看大圖)
ASAS過程步驟
1閥門A打開,注射器通過PFA管更寬的內(nèi)徑僅把標(biāo)準(zhǔn)溶液從儲(chǔ)備標(biāo)準(zhǔn)溶液瓶吸入到定量環(huán)。
a. 由于樣品溶液管線處于負(fù)壓狀態(tài),且定量環(huán)和樣品溶液管線之間設(shè)有較小的毛細(xì)管,可防止樣品溶液被吸入定量環(huán)。
b. 注射器和定量環(huán)容積分別為1000 μL和800 μL。
2通過一次注射器抽吸將標(biāo)準(zhǔn)溶液注入定量環(huán)中,接著關(guān)閉閥門A,開啟閥門B,以此將注射器中的標(biāo)準(zhǔn)溶液通過閥門B排放到廢液瓶中。
3重復(fù)上述步驟清潔定量環(huán)。
a. 定量環(huán)中只能填充和保存干凈的標(biāo)準(zhǔn)溶液。
4當(dāng)需要添加標(biāo)準(zhǔn)溶液時(shí),注射器將定量環(huán)中的標(biāo)準(zhǔn)溶液推至樣品溶液管線。
5當(dāng)注射器中剩余溶液的體積低于規(guī)定值時(shí),完成當(dāng)前標(biāo)準(zhǔn)溶液添加序列后立即自動(dòng)重新填充標(biāo)準(zhǔn)溶液。
通過ASAS的理論標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)樣量為0.1-99.99 μL/min,但是實(shí)際進(jìn)樣量范圍建議為0.5-10 μL/min。這是因?yàn)檫^低的進(jìn)樣量需要更長的穩(wěn)定時(shí)間來對(duì)進(jìn)樣管線加壓,而更高的進(jìn)樣量會(huì)稀釋樣品溶液。
3儀器條件
表1列出了NexION 5000 ICP-MS的儀器條件。DIW分析采用了高進(jìn)樣速度的石英進(jìn)樣系統(tǒng),以避免被PFA管吸附。對(duì)于H2SO4和HCl分析,使用了帶有C-Flow S型霧化器的PFA進(jìn)樣系統(tǒng)(Savillex, Minnesota,美國)。
表1:NexION 5000 ICP-MS的儀器條件
NH3和O2反應(yīng)氣體用于克服干擾問題。
ASAS軟件與Syngistix™軟件的開發(fā)套件進(jìn)行通信,以便創(chuàng)建數(shù)據(jù)集并將采集方法從ASAS軟件切換到Syngistix軟件。將樣品溶液置于SC-μ自動(dòng)進(jìn)樣器(Elemental Scientific Inc.,美國內(nèi)布拉斯加州奧馬哈)上,并在ASAS軟件中建立序列。分析步驟如下:
01將自動(dòng)進(jìn)樣器探頭移至樣品瓶中。
02ASAS軟件在Syngistix軟件中啟動(dòng)采集方法,同時(shí)NexION 5000等待來自ASAS的觸發(fā)信號(hào)。
03等待進(jìn)樣管中的樣品溶液更換后,ASAS向NexION 5000發(fā)送觸發(fā)信號(hào)。
04對(duì)未加標(biāo)樣品進(jìn)行分析,之后用Syngistix軟件生成計(jì)數(shù)報(bào)告文件。
05ASAS軟件從Syngistix軟件中檢索計(jì)數(shù)報(bào)告文件,并停止觸發(fā)信號(hào)。
06ASAS在進(jìn)樣管線中引入了一個(gè)小氣泡并測(cè)量進(jìn)樣速度。
07ASAS開始注入標(biāo)準(zhǔn)溶液,以達(dá)到ASAS軟件中規(guī)定的第一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)濃度。如果進(jìn)樣速度為100 μL/min,且ASAS儲(chǔ)備標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度為1 ppb,則從ASAS注入1 μL/min的ASAS儲(chǔ)備標(biāo)準(zhǔn)溶液,以獲得10 ppt的濃度。
08等待一段穩(wěn)定時(shí)間后,ASAS向NexION 5000發(fā)送觸發(fā)信號(hào)。
09重復(fù)步驟4至8,直到完成所有標(biāo)準(zhǔn)溶液水平的分析,并將自動(dòng)進(jìn)樣器探頭移至沖洗端口。
結(jié)果和討論
圖2顯示了使用ASAS進(jìn)樣的NexION 5000 ICP-MS上的信號(hào)穩(wěn)定性。以202 μL/min的速度自吸1% HNO3溶液中濃度為0.5 ppb的In標(biāo)準(zhǔn)溶液,從ASAS注射器中以10、5.0、2.5、1.0、0.5和0.25 μL/min的速度加入5% HNO3中濃度為100 ppb的Li、Mg、Ge、Sr和Zr溶液。可以清楚地看到,在NexION 5000 ICP-MS上進(jìn)行分析時(shí),即使在0.25 μL/min的進(jìn)樣速度下,使用ASAS進(jìn)樣也顯示出非常穩(wěn)定的信號(hào)。
圖2:ASAS穩(wěn)定性(點(diǎn)擊查看大圖)
1去離子水(DIW)分析
DIW由霧化器自吸,接著ASAS通過向樣品管線中注射少量空氣測(cè)量進(jìn)樣速度,同時(shí)ASAS加入標(biāo)準(zhǔn)溶液,從而分別得到0、0.1、0.5、1、2和5 ppt的濃度。表2顯示了分析結(jié)果和NexION 5000條件,而圖3顯示了校準(zhǔn)曲線。
表2:DIW結(jié)果(點(diǎn)擊查看大圖)
*1:計(jì)數(shù)為0
圖3:DIW的標(biāo)準(zhǔn)添加校準(zhǔn)曲線(點(diǎn)擊查看大圖)
所有元素在單ppt級(jí)和亞ppt級(jí)均顯示出出色的線性校準(zhǔn)曲線。NexION 5000 ICP-MS的特點(diǎn)之一是離子導(dǎo)向模式,可以針對(duì)不同等離子體條件使用最佳四極桿離子偏轉(zhuǎn)器(QID)電壓。由于來自等離子體的離子動(dòng)能取決于質(zhì)量并且受等離子體溫度的顯著影響,QID使用從較低質(zhì)量到較高質(zhì)量的不同電壓。在本實(shí)驗(yàn)中,使用了兩種離子導(dǎo)向模式,即冷等離子體模式和提取模式。利用多四極桿技術(shù)和通用池組合的優(yōu)勢(shì),對(duì)一些元素(如Ti、Ge、As和Se)使用質(zhì)量位移模式,其背景等效濃度(BEC)低于其他模式。
2硫酸(H2SO4)分析
使用自吸法分析10%(wt/wt)H2SO4,并使用ASAS創(chuàng)建標(biāo)準(zhǔn)添加校準(zhǔn)曲線。加標(biāo)濃度分別為0、5、10、20、50和100 ppt,均獲得了良好的線性校準(zhǔn)曲線,如圖4所示。每種元素使用不同的質(zhì)量和IGM模式,表3總結(jié)了展示最低BEC的結(jié)果。除Fe和Se外,其余元素BEC均低于1 ppt。隨著H2SO4的加入,F(xiàn)e的背景逐漸降低,因此可以預(yù)期BEC會(huì)在徹底清洗后大幅降低。幾種元素在聚焦離子導(dǎo)向模式下表現(xiàn)出更好的BEC。使用NexION 5000 ICP-MS上的反應(yīng)模式也消除了對(duì)V、Cr、Zn、Ge和Mo的硫相關(guān)多原子干擾。
表3:10% H2SO4的結(jié)果(點(diǎn)擊查看大圖)
圖4. 10% H2SO4標(biāo)準(zhǔn)添加校準(zhǔn)曲線(點(diǎn)擊查看大圖)
3鹽酸(HCl)分析
用自吸法分析15%(wt/wt)鹽酸,用ASAS建立標(biāo)準(zhǔn)添加校準(zhǔn)曲線。加標(biāo)濃度分別為0、5、10、20、50和100 ppt,獲得了良好的線性校準(zhǔn)曲線,如圖5所示。分析了每種元素的不同質(zhì)量和離子導(dǎo)向模式,最低BEC見表4。使用NexION 5000 ICP-MS上的反應(yīng)模式消除了對(duì)V、Cr、Zn、Ge和Mo的氯相關(guān)干擾。由于Sn的檢測(cè)濃度超過200 ppt,與加標(biāo)濃度相比過高,所以表中未報(bào)告Sn。
表4:15% HCl的結(jié)果(點(diǎn)擊查看大圖)
圖5. 15% HCl標(biāo)準(zhǔn)添加校準(zhǔn)曲線(點(diǎn)擊查看大圖)
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在分析方面,在熱等離子體條件下DIW中發(fā)現(xiàn)所有元素(甚至堿土元素)均具有≤1 ppt的出色BEC和DL,表明NexION 5000 ICP-MS具有較好的抗干擾能力。除Fe和Se外,對(duì)于其余元素硫酸均具有低于1 ppt的出色BEC,表明有可能受到這些元素的污染。在10% H2SO4中,除Cr和Zn外,其他元素的DL均≤1 ppt。在15% HCl中,除 Ca、Fe、As、Se和Mo外,所有元素的BEC均<1 ppt。除As和Se外,所有元素DL均≤1 ppt。眾所周知,HCl比其他酸(如HNO3)更難純化,且污染物水平往往更高。
本文結(jié)論
本工作展示了ASAS與NexION 5000多四極桿ICP-MS集成,用于DIW、10% H2SO4和15% HCl中28種元素的低ppt和亞ppt分析。
ASAS能夠通過與ICP-MS的Syngistix軟件輕松集成,提供自動(dòng)和在線MSA校準(zhǔn)。該款用戶友好型進(jìn)樣系統(tǒng)無需閥門,因而最大限度地降低了記憶效應(yīng)和樣品污染的風(fēng)險(xiǎn)。由于在樣品運(yùn)行過程中分析了各種化學(xué)品,每種化學(xué)品都有不同的粘度、蒸氣壓、沸點(diǎn)和表面張力,因此需要使用MSA方法進(jìn)行校準(zhǔn),以便進(jìn)行準(zhǔn)確的定量分析。
使用ASAS結(jié)合NexION 5000多四極桿ICP-MS,能夠提供以下優(yōu)勢(shì):
快速、簡單、高效的MSA校準(zhǔn)和樣品測(cè)量;
簡易集成ASAS與ICP-MS Syngistix軟件;
NexION 5000 ICP-MS具有出色的抗干擾能力,即使在熱等離子體條件下,DIW中所有元素的BEC也能達(dá)到亞ppt水平;
評(píng)估的所有基質(zhì)都具有出色的BEC和DL,即使是H2SO4和HCl等濃酸。
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