活化晶格氧,實現(xiàn)高效電解水,臺式easyXAFS助力精細結(jié)構(gòu)表征!
氧析出反應(yīng)(OER)的緩慢動力學是電解水制氫技術(shù)的核心難題之一。Fe基材料具有廉價環(huán)保的特點,在能源領(lǐng)域被寄予厚望,然而其本征OER催化活性差,限制了其在電解水中的大規(guī)模應(yīng)用。為解決上述問題,四川師范大學與大灣區(qū)大學研究人員制備了Fe2O3–CeO2異質(zhì)結(jié),提升了催化劑的本征活性,在317 mV的低過電位下實現(xiàn)了1000 mA cm-2大電流。作者利用美國easyXAFS公司研發(fā)的臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+解析了材料的精細結(jié)構(gòu),并結(jié)合多種表征及理論計算,證明引入了豐富的氧空位,活化了晶格氧機理(LOM)。該項成果代表了一種高效廉價的OER催化劑設(shè)計策略,以“Activating lattice oxygen by a defect-engineered Fe2O3–CeO2 nano-heterojunction for efficient electrochemical water oxidation”為題發(fā)表于期刊Energy & Environmental Science。
本文使用了臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+(如圖1所示)對樣品的局域配位環(huán)境和化學態(tài)信息進行了表征,獲取了催化活性組分的關(guān)鍵信息。該設(shè)備無需同步輻射光源,可在常規(guī)實驗室環(huán)境中實現(xiàn)X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜XAFS和X射線發(fā)射譜XES的雙通道測試,獲得媲美同步輻射光源的高質(zhì)量譜圖,用于分析材料的元素價態(tài)、化學鍵和配位結(jié)構(gòu)等信息。現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于電池、催化、地質(zhì)、環(huán)境、陶瓷、電磁波材料和核化學等研究領(lǐng)域。該設(shè)備已幫助國內(nèi)外用戶在J. Am. Chem. Soc., Nat. Commun., Angew., Energy & Environmental Science, Adv. Mater.,等高水平期刊上發(fā)表大量科研成果。
臺式X射線吸收譜儀系統(tǒng)easyXAFS300+
圖2展示了催化劑的X-射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜(XAFS)表征結(jié)果。Fe-K邊XANES譜圖(圖2a)顯示,F(xiàn)e2O3–CeO2異質(zhì)結(jié)與純相Fe2O3具有相同的吸收邊形狀及峰位,表明Fe2O3–CeO2異質(zhì)結(jié)中的Fe主要以八面體FeO6中心的三價Fe3+形式存在。煅燒后形成缺陷調(diào)控的Fe2O3@CeO2-OV,顯示吸收邊明顯向較低能量轉(zhuǎn)移,接近Fe箔的吸收邊,表明Fe價態(tài)降低至Fe(0)和Fe(III)之間。此外,F(xiàn)e2O3@CeO2–OV 在 7126.7 eV 處顯示出平坦的白線峰,與 Fe2O3@CeO2 相比,白線峰強度降低,這對應(yīng)于從 Fe 中心到附近配位原子(在本例中為 O)的電子轉(zhuǎn)移減少,進一步證明缺陷調(diào)控后局部結(jié)構(gòu)無序性的增加。圖 2b 顯示了所有樣品的傅里葉變換的 Fe-K 邊擴展 X 射線吸收精細結(jié)構(gòu) (EXAFS) 曲線。與 Fe 箔相比,三個樣品在 2.21? 左右沒有觀察到 Fe–Fe 信號,證明不存在金屬 Fe 物質(zhì)。在 Fe2O3@CeO2 和 Fe2O3 中觀察到 1.51 ? 和 2.62 ? 處的兩個顯著峰,可分別歸因于第一殼層 Fe–O 和第二殼層 Fe–Fe/Ce。Fe2O3@CeO2 的 2.62 ? 峰強度的增加可以歸因于異質(zhì)結(jié)形成產(chǎn)生的額外的第二殼層 Fe-Ce 相互作用。 然而,缺陷豐富的 Fe2O3@CeO2–OV 表現(xiàn)出明顯的 EXAFS 特征。第一個峰移至 1.75 ? 并急劇加寬,而第二個峰幾乎消失。這種明顯的變化是由于缺陷引起的晶格畸變和非晶化導(dǎo)致長程有序結(jié)構(gòu)的破壞。
圖2. (a)Fe-K邊XANES譜圖,(b)Fe-K邊EXAFS的傅里葉變換圖,(c)Fe2O3@CeO2–OV樣品的Fe-K邊小波變換圖,(d)Ce-L3邊XANES譜圖,(e)Ce-L3邊EXAFS的傅里葉變換圖,(f)Fe2O3@CeO2–OV樣品的Ce-L3邊小波變換圖
作者對樣品進行了定量 EXAFS 擬合分析,以研究配位環(huán)境,樣品的原始曲線和擬合曲線在 k 和 R 空間如圖3所示。 Fe2O3 和 Fe2O3@CeO2 均采用典型的 Fe2O3配位結(jié)構(gòu),具有 6 個第一殼層 Fe–O 和 12 個第二殼層 Fe-Fe 配位數(shù),而 Fe2O3@CeO2–OV 的 Fe–O 配位數(shù)降低至 ~5.0,F(xiàn)e–O 鍵長從 1.99 ? 擴展至 2.07 ?,第二殼層信號幾乎消失,證實了形成了大量氧空位且結(jié)構(gòu)無序性增加。圖 2c 顯示了 Fe2O3@CeO2–OV 的 Fe-K邊 EXAFS 信號的小波變換 (WT),在 k 空間中僅在 ~5.26 ?-1 處顯示一個強度最大值,與 Fe2O3和 Fe2O3@CeO2相比,該最大值擴展到更高的 R 區(qū)域,這歸因于擴展的 Fe–O 背散射貢獻。圖 2d 顯示了 Fe2O3@CeO2、Fe2O3@CeO2–OV 和 CeO2 的 Ce-L3 邊 XANES 圖譜,并以商業(yè) CeO2 樣品作為 Ce 標準。在 5728.7 eV 和 5734.2 eV 處發(fā)現(xiàn)了兩個白線邊吸收峰,證實了 Ce3+/Ce4+ 混合氧化態(tài)的共存。Fe2O3@CeO2–OV 的白線邊位于低能量處,同時 4f0 邊強度下降,表明由于形成了更多的氧空位,Ce 價態(tài)降低,Ce3+/Ce4+ 比值增加。圖 2e 顯示了所有含 Ce 樣品的 Ce-L3 邊 EXAFS 光譜,該光譜顯示出兩個主要特征。約 1.75 ? 的主要峰與第一殼層 Ce–O 配位有關(guān)。第二個峰與第二鄰近的 Ce–Ce 或 Ce–Fe 散射有關(guān),該峰形狀的輕微變化包含指紋信息,分別表示由于異質(zhì)結(jié)和缺陷形成而導(dǎo)致的中程晶格結(jié)構(gòu)重新分布。圖 2f 中 Fe2O3@CeO2–OV 的 WT-EXAFS 輪廓圖顯示,在 k 空間中強度最大值在 2 到 6 ?-1 之間擴展,這歸因于不同鍵長的各種 Ce–O 背向散射的貢獻。在高 R 區(qū)域還可以識別出來自Ce–Ce/Fe 背向散射信號的較弱峰。EXAFS 擬合表明Fe2O3@CeO2–OV的 Ce–O 配位數(shù)降低至~6.2,表明在缺陷工程過程中晶格氧的損失和氧空位的形成。
圖3. k空間與R空間中Fe-K邊的EXAFS譜圖及其擬合曲線
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