無掩膜光刻技術，進展如何？

01 光刻技術

光刻技術是一種關鍵的芯片制造工藝，主要用于在芯片表面上制造微米級別的結構。光刻技術可以將高精度的芯片圖案轉移到光刻膠上，再通過化學腐蝕等方法進行芯片加工。

引用出處：evgroup.

02 光刻技術的優點

隨著科技發展和人們對小尺寸、高性能芯片的需求增加，傳統的機械加工方法無法滿足芯片制造的要求。而光刻技術可以制造出更小、更復雜的芯片結構，并且具有高精度、高效率的特點。因此，光刻技術成為了現代芯片制造工藝中重要的一環。

引用出處：zhihu.

03 有掩膜光刻技術

光刻技術主要應用于半導體工業中，用于制造各種類型芯片，例如微處理器、存儲器、CMOS圖像傳感器等等。此外，在MEMS（微電子機械系統）等領域也需要使用光刻技術。

光刻技術根據是否需要使用掩膜版可分為有掩膜光刻和無掩膜光刻兩種。

有掩膜光刻技術是指利用特定波長的光進行輻照，將掩膜版上的芯片圖案轉移到光刻膠上，然后通過刻蝕等方法進行加工。有掩膜光刻技術具有精度高、可靠性好的優點，但需要制備掩膜版，這增加了成本和時間，并且在制造不同型號的芯片時需要更換掩膜版。

04 無掩膜光刻技術

而無掩膜光刻技術則不需要制備掩膜版，直接通過計算機控制空間光調制器或激光直寫等設備將芯片圖案直接投射到光刻膠上進行加工。這種光刻技術的優點是靈活性高、制作周期短、成本低等。

引用出處：esu3d.

05 無掩膜光刻技術的進展

基于數字微鏡器件（DMD）的無掩膜光刻技術是目前應用廣泛的光刻技術之一。它利用數字微鏡器件將芯片圖案直接投射到光刻膠上，從而實現高精度的芯片制造。這種技術能夠快速制造出各種復雜的芯片結構，并且具有靈活性高、成本低等優點。此外，基于DMD的無掩膜光刻技術還具有可重復性好、制造周期短等優點，在快速迭代和小批量生產方面表現突出，未來有著廣闊的應用前景。

引用出處：visitech.

托托科技是一家專注于顯微光學加工和顯微光學檢測領域的公司，在基于數字微鏡器件的無掩膜光刻技術領域中進行了數年的深入研究和技術積累，其研制和生產的無掩膜紫外光刻機一經問世，就受到了諸多客戶的青睞，在科研和工業領域都有廣泛的應用。例如，在微納加工領域，可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等；在光電子領域，可以用于制作光柵、衍射光學元件等。

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