日本進(jìn)口Ushio牛尾VUV-S172-LES紫外線清洗裝置
日本進(jìn)口Ushio牛尾VUV-S172-LES紫外線清洗裝置
1.簡介
UV/O3清洗是使用紫外線產(chǎn)生活性氧,同時(shí)分解、氧化揮發(fā)除去附著在基板表面的有機(jī)物的干清洗方法。這是對(duì)放置在大氣中的基板照射真空紫外線的簡便方法,進(jìn)入20世紀(jì)80年代后半期,隨著LCD產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而被導(dǎo)入到制造工序中。作為濕處理的前工序、成膜工序的前清洗等使用,光源使用低壓水銀燈。
近年來,要求基板尺寸的大型化、處理時(shí)間的縮短化,準(zhǔn)分子光照射裝置是為了滿足該要求而開發(fā)的。
UV/O3清洗的原理如下所示。
光的波長越短,其能量越大,分解有機(jī)物(CmHnOk)的能力越好。因此,172nm準(zhǔn)分子光的清洗能力優(yōu)于現(xiàn)有的低壓汞燈。
2.光源和特征
本裝置是搭載了中心波長為172nm的Xe2*準(zhǔn)分子燈的準(zhǔn)分子光源。
概述裝置的結(jié)構(gòu)。
基本結(jié)構(gòu)如圖1所示。在金屬塊上設(shè)置的多個(gè)圓筒槽上固定有準(zhǔn)分子燈。金屬塊包括冷卻水流路以允許水冷,燈通過金屬塊冷卻。在燈和燈之間設(shè)置有山形的反射鏡,在使窗面的放射照度分布均勻的同時(shí)起到有效地取出光的作用。燈、金屬塊、山形鏡被收納在金屬容器內(nèi)。金屬容器具有氮?dú)獾娜肟凇⒊隹冢萜鲀?nèi)充滿對(duì)準(zhǔn)分子光吸收少的氮?dú)狻T跓舻那懊嬖O(shè)置有有效透過真空紫外光的窗玻璃(合成石英),由窗玻璃照射準(zhǔn)分子光。
作為光源的特征
①不損害壽命,可瞬間點(diǎn)燈點(diǎn)燈點(diǎn)燈
②溫度上升少,可以進(jìn)行低溫處理
③由于是平面窗,清掃性好,維護(hù)性好
這樣的點(diǎn)。不損害壽命地能夠進(jìn)行閃爍點(diǎn)燈意味著僅在必要時(shí)點(diǎn)燈即可,實(shí)質(zhì)上導(dǎo)致長壽命化,燈更換次數(shù)減少即可。照片1是具有750mmx940mm的窗的照射裝置UER759412-172的照片。UER759412-172的概略規(guī)格如表.1所示。
隨著基板尺寸的大型化,統(tǒng)一曝光清洗方式變得困難,現(xiàn)在提出了掃描方式的高輸出單元。最大對(duì)應(yīng)掃描寬度1040mm,窗面輻照度MAX50~60mW/cm2。批量曝光方式、掃描方式都根據(jù)用途設(shè)計(jì)對(duì)應(yīng)。
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