針對合成研發(fā)的需求，需要制定具體的原料規(guī)格要求，以便篩選并驗(yàn)證國產(chǎn)化供應(yīng)商的原料性能，從源頭確保最終成品光刻膠的品質(zhì)。針對后續(xù)合成及純化過程中的工藝需求和難點(diǎn)，可以采用 ICP-OES 或 ICP-MS 分析技術(shù)檢測原料中關(guān)鍵金屬元素雜質(zhì)的含量，這種方法簡單高效，能夠快速比對并篩選不同來源原料的差異。

半導(dǎo)體光刻膠主要以成膜樹脂、光引發(fā)劑、溶劑為主要成分，并輔以抗氧化劑、均勻劑、增粘劑等。在研發(fā)過程中，所有這些組分原料的雜質(zhì)元素含量均需嚴(yán)格控制。特別是對于像 PGMEA 和 PGME 這樣的溶劑以及關(guān)鍵組分樹脂，還有分析起來較為復(fù)雜的 PAG，都需要采用合適且準(zhǔn)確的分析方法來測定其金屬雜質(zhì)濃度。Agilent ICP-MS 憑借全產(chǎn)業(yè)鏈的成熟分析方法，能夠同時(shí)分析多種半導(dǎo)體光刻膠原料及中間產(chǎn)物，無需進(jìn)行復(fù)雜的方法切換，這對于確保光刻膠質(zhì)量符合半導(dǎo)體制造要求具有至關(guān)重要的作用。

目前，國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠在金屬雜質(zhì)含量方面已與國際龍頭產(chǎn)品相近，但其批次間的穩(wěn)定性問題仍然亟待解決。因此，在光刻膠量產(chǎn)階段，分析測試的穩(wěn)定性顯得尤為重要。而 Agilent 8900 ICP-MS/MS 憑借其超高的靈敏度和消除質(zhì)譜干擾的能力，為半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)線的嚴(yán)格質(zhì)量控制提供了有力保障。

另外，隨著對光刻膠中納米顆粒雜質(zhì)含量的日益關(guān)注，這一指標(biāo)逐漸成為了衡量國產(chǎn)產(chǎn)品與進(jìn)口高端產(chǎn)品質(zhì)量差距的一個(gè)重要標(biāo)準(zhǔn)。Agilent 8900 ICP-MS/MS 憑借其成熟的納米顆粒分析技術(shù)，為國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠的分析提供了有效指導(dǎo)，如下圖所示，該圖展示了兩種不同來源的同類型光刻膠中含 Fe 納米顆粒雜質(zhì)含量的快速剖析結(jié)果。