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無磁光學平臺主要用于搭建立體閾上電離實驗系統，滿足對磁場有較高要求的實驗環境。
無磁光學平臺根據不同的應用需求和實驗條件有多種類型和規格可供選擇。例如，有臺面無磁型和臺面及支撐無磁型兩種類型，以滿足不同用戶對磁場敏感度的要求。規格方面，平臺的大小、高度、負載能力等參數均可根據用戶需求進行定制。
無磁光學平臺是一種特殊的實驗設備，其主要功能和特點包括：
滿足特定實驗需求：無磁光學平臺主要用于搭建立體閾上電離實驗系統，這種實驗需要在無磁無震動環境下進行，以確保實驗結果的準確性。
材料選擇：平臺通常采用304不銹鋼或316不銹鋼制成，這些材料具有好的無磁性，能夠滿足對磁場有較高要求的實驗環境。
技術指標：無磁光學平臺的技術指標包括其無磁性、隔振性能等，這些指標對于保證實驗的準確度和穩定性很重要。
應用領域：無磁光學平臺廣泛應用于光學實驗、醫學實驗、精密儀器生產檢測、航空航天等領域，其中光學實驗包括但不限于立體閾上電離實驗、顯微鏡、光路測試、光學測量等。
技術特點：無磁光學平臺具有好的隔振性能和自動調節水平的功能，這些特點有助于改善振動環境，提高儀器設備的精度和使用效率。
綜上所述，無磁光學平臺是一種專門設計用于滿足特定實驗需求的高精度設備，它在科學研究和技術開發中扮演著重要的角色。
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