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隨著科技的進步和發展，人們從理論和實驗研究中發現，當許多材料被加工為具有納米尺度范圍的形狀時，會呈現出與大塊材料完*不同的性質。這些特異的性質向人們展現了令人興奮的應用前景。在開發超大規模集成電路工藝技術的過程中，如電子束與X射線曝光，聚焦離子束加工技術等。但這些技術的缺點是設備昂貴，產量低，因而產品價格高昂。商用產品的生產必須是廉價的、操作簡便的，可工業化批量生產的、高重復性的；對于納米尺度的產品，還必須是能夠保持它所*有的圖形的精確度與分辯率。
納米壓印系統可以實現微米和納米尺度圖形結構的復制加工，采用單面氣壓方式，有力保證了壓印的均勻性，減少碎片的發生。中間聚合物轉印則可以較大程度保護原始模具，延長使用壽命。
納米壓印系統是基于其機械壓印原理，將具有納米級尺寸圖案的模板在機械力的作用下壓到涂有高分子材料的襯底上，進行等比例壓印復制圖案的工藝。其實質就是液態聚合物對模板結構腔體的填充過程和固化后聚合物的脫模過程。其加工分辨力只與模版圖案的特征尺寸有關，而不受光學光刻的*短曝光波長的物理限制。具有避免使用昂貴的光源及投影光學系統，不受光學光刻的*短曝光波長的物理限制和工藝簡便等特點，其高精度、高分辨率、廉價的特點使其很可能成為下一代重要的光刻技術，一種重要的微納米復制技術。
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