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紫外臭氧清洗機(jī)用于鍵合表面活化等試驗(yàn)，樣品臺(tái)高度可調(diào)，通過調(diào)節(jié)燈與樣品之間的間距，可以合理定位樣品高度和位置，位置可鎖定。
紫外臭氧清洗機(jī)是通過有機(jī)化合物的光敏氧化作用去除附著在工件表面的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過紫外臭氧清洗機(jī)清洗后的工件表面可達(dá)到原子級清潔度。通過高于絕大多數(shù)有機(jī)物結(jié)合能量的紫外光線，發(fā)出波長為185nm和254nm的紫外線，空氣中的氧分子吸收紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧，臭氧可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有較強(qiáng)的氧化性，可切斷碳?xì)浠湘I，生成水和二氧化碳等可揮發(fā)氣體，從而去除工件表面的污染物。
工作條件：
工作環(huán)境溫度：5-35℃。
工作環(huán)境濕度：≤70%。
該設(shè)備在處理ITO,FTO，光學(xué)玻璃，半導(dǎo)體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機(jī)物，可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性，在襯底涂層或者鍍膜，基片鍵合等方面有廣泛應(yīng)用。
本公司提供的CIF UVO13紫外臭氧清洗機(jī)具有自動(dòng)補(bǔ)償功能，自動(dòng)恒定光強(qiáng)光密度，不會(huì)因?yàn)榈蛪汗療衾匣鈴?qiáng)衰減影響清洗效果。數(shù)字倒計(jì)時(shí)顯示清洗時(shí)間，1-999分鐘之間可自行設(shè)置清洗時(shí)間。自動(dòng)記錄之前清洗參數(shù)設(shè)置。可隨時(shí)手動(dòng)中斷處理過程。
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