Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤

來源：伯東企業（上海）有限公司 2023年02月08日 10:42

某薄膜磁盤制造采用Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤, 去除濺射鍍制磁盤薄膜的污染物和提高薄膜的均勻性.

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術參數:

Model		MEL3100	Main body
Wafer size		3"～6"	Power Supply	AC200V 3ph 40A
Wafer per batch		1 wafer	Power Supply	*two lines
Cassette	No.	25 wafers	Cooling Water	15 (l/min)
Cassette	Q'ty	1pc.	Cooling Water	<20℃
Throughput		10 (wafer/hr) *1	CDA	0.5 (MPa)
Pressure	Ultimate	8×10-5 (Pa) *2	CDA	>10 (l/min)
Pressure	Process	2×10-2 (Pa) *2	N2	0.2 (MPa)
Etching	Rate	>10 (nm/min)@SiO2 *3	N2	>40 (l/min)
Etching	Uniformity	±5%@132mm (6") *3	Ar	0.2 (MPa)
Wafer surface temp.		<100℃ *3	Ar	20 (sccm)
Stage rotating		1～20 (rpm) ±5%	He	0.2 (MPa)
Stage tilting		±90°±0.5°	He	20 (sccm)
Dimension W×D×H (mm)	Main body	1,600×2,175×1,900	*need additional utilities for Dry pump
	Controller	640×610×1,900	*need additional utilities for Dry pump
	Chiller	555×515×1,025
Weight (kg)	Main body	1,700
	Controller	200
	Chiller	100
*1: Estimated process time 5min
*2: No wafer on stege / process chamber
*3: Depending on process

Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 產品優勢：

1. 所有流程全自動減少人工操作, 從而保證了產品的無差錯、高穩定性和高質量

2. 盒式房間采用高效微粒過濾器

3. 采用高質量的蝕刻考夫曼離子源, 保證良好的均勻性和高蝕刻率

4. 占用空間小

5. 傳輸系統采用了 SCARA 型機器人

6. 控制單元系統提供操作通過觸摸屏/ 10.4英寸, 數據記錄可以顯示在屏幕上

7. 高冷卻效果

8. 良好的重復性和再現性的旋轉和傾斜階段具有良好的可重復性利用脈沖電動機

9. 容易維護這個系統設計重點是容易維護和用戶友好

10. 關鍵部件服務伯東的經銷商是系統中的關鍵部件渦輪泵系統、離子源提供客戶快速響應時間和本地服務能力,減少停機時間的工具

該 Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100的核心構件離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP 380

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：

運行結果:

1. 有效去除濺射沉積時帶來的污染物

2. 提高了薄膜磁盤的均勻度

3. 獲得具有高矯頑力、高剩磁、高穩定性的連續薄膜型的記錄介質

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生

相關產品

凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。

国产一级a毛一级a看免费视频,久久久久久国产一级AV片,免费一级做a爰片久久毛片潮,国产精品女人精品久久久天天,99久久久无码国产精品免费了