傅里葉紅外氣體分析儀在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用
半導(dǎo)體是電子產(chǎn)品的核心,信息產(chǎn)業(yè)的基石。半導(dǎo)體行業(yè)是國民經(jīng)濟(jì)支柱性行業(yè)之一,其發(fā)展程度是衡量一個(gè)國家科技發(fā)展水平的核心指標(biāo)。近年來,為進(jìn)一步鼓勵(lì)國內(nèi)半導(dǎo)體的整體發(fā)展,打破外國壟斷,增強(qiáng)科技競爭力,政府投入資金在國內(nèi)建造很多集成電路制造廠。
由于半導(dǎo)體行業(yè)的特殊性,芯片的制造、加工工藝非常復(fù)雜,在芯片生產(chǎn)工藝中需要使用特殊的高純氣體且氣體毒性很強(qiáng),這些氣體參與芯片生產(chǎn)后,殘余的少量氣體經(jīng)過凈化裝置處理后,通過固定污染源的方式排放至大氣環(huán)境中,如何監(jiān)測特殊污染物排放量并采取適當(dāng)?shù)目刂拼胧┦前雽?dǎo)體行業(yè)面臨的難點(diǎn),現(xiàn)有的監(jiān)測設(shè)備及分析手段無法用于半導(dǎo)體行業(yè)特殊污染物的檢測工作。
樂氏科技自主研發(fā)生產(chǎn)的9100FIR和進(jìn)口產(chǎn)品AtmosFIR兩款傅里葉紅外氣體分析儀,能夠很好地滿足半導(dǎo)體行業(yè)排污監(jiān)測需要。傅里葉紅外氣體分析儀采用全光譜分析技術(shù),一臺(tái)分析儀可以檢測在紅外光譜范圍內(nèi)具有紅外吸收的全部氣體組分,目前儀器開放的氣體標(biāo)準(zhǔn)定量紅外譜庫*涵蓋半導(dǎo)體行業(yè)特殊污染物因子,如NF3、SF6、CF4是半導(dǎo)體行業(yè)為關(guān)注的三種氣體污染物,關(guān)于這三種氣體的介紹如下:
NF3是一種強(qiáng)氧化劑,在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,在芯片制造有運(yùn)用;
SF6是一種的電子蝕刻劑,廣泛應(yīng)用于微電子、芯片制造技術(shù)領(lǐng)域;
CF4是微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體,四氟甲烷高純氣和高純氧的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻;
NF3、SF6、CF4是半導(dǎo)體行業(yè)使用多的三種氣體組分,由于用量很大,且為高純氣,除污染物的排放會(huì)涉及上述氣體組分,氣體的泄漏也會(huì)對人體和環(huán)境產(chǎn)生巨大影響和毒害。這些氣體組分會(huì)強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜,腐蝕組織,濃度過高也會(huì)產(chǎn)生窒息的危險(xiǎn)。因此在半導(dǎo)體行業(yè)針對上述氣體的應(yīng)急監(jiān)測及固定污染源排放監(jiān)測顯得尤為重要。
目前樂氏科技的AtmosFIR已在合肥晶合集成電路有限公司進(jìn)行應(yīng)用,除了常規(guī)的無機(jī)和有機(jī)氣體組分以外,樂氏科技額外提供了NF3、SF6、CF4三種氣體的定量模型,可以實(shí)現(xiàn)對NF3、SF6、CF4的測量。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。